Ступенчатая керамическая пластина из карбида кремния (SiC) - это высокопроизводительный конструкционный керамический компонент, разработанный для оборудования по обработке полупроводников и высокотемпературных промышленных систем. Благодаря прецизионно обработанному ступенчатому профилю этот компонент обеспечивает точное позиционирование, надежную сборку и превосходную стабильность размеров в сложных технологических условиях.
Изготовленный из высокочистой керамики карбида кремния, этот компонент обладает исключительной устойчивостью к воздействию плазмы, тепловому удару, химической коррозии и экстремальным температурам. Высокая жесткость и теплопроводность делают его идеальным для конструкционных и защитных применений внутри полупроводникового оборудования.
Созданные для обеспечения долговременной надежности, керамические пластины со ступенчатой структурой SiC широко используются в технологических камерах, вакуумных системах, тепловом оборудовании и плазменных системах, связанных с полупроводниками.
Основные характеристики
Материал карбид кремния высокой чистоты
Изготовлен из керамики ≥99% SiC с превосходными тепловыми и механическими характеристиками.
Прецизионная ступенчатая конструкция
Геометрия со ступенчатыми краями обеспечивает точное позиционирование и стабильность механической сборки.
Выдающаяся термическая стабильность
Способны непрерывно работать при температурах свыше 1600°C в инертной среде с минимальной деформацией.
Отличная устойчивость к плазме
Устойчивость к плазменной эрозии и коррозионным технологическим газам, используемым в производстве полупроводников.
Высокая теплопроводность
Теплопроводность 120-200 Вт/м-К обеспечивает эффективную теплопередачу и равномерность температуры.
Высокая механическая прочность
Отличная жесткость и износостойкость для длительной работы в сложных условиях.
Совместимость с вакуумом
Низкий уровень газовыделения делает его пригодным для использования в чистых и вакуумных условиях.
Полностью настраиваемый
Размеры, ступенчатая структура, допуски и геометрия кромок могут быть изготовлены по чертежам.
Типовые применения
- Камеры для полупроводниковых процессов
- Системы CVD / PECVD / LPCVD
- Оборудование для плазменного травления
- Крышки камер и вкладыши
- Высокотемпературные опорные конструкции
- Системы вакуумной обработки
- Керамические компоненты с плазменным покрытием
- Оборудование для оптико-электронного производства
Технические характеристики
| Артикул | Технические характеристики |
|---|---|
| Материал | Карбид кремния (SiC) |
| Чистота | ≥99% |
| Плотность | 3,10-3,20 г/см³ |
| Твердость | ≥2500 HV |
| Прочность на изгиб | ≥350 МПа |
| Модуль упругости | ~410 ГПа |
| Теплопроводность | 120-200 Вт/м-К |
| Коэффициент теплового расширения | ~4.0 ×10-⁶ /K |
| Максимальная температура (инертная атмосфера) | >1600°C |
| Максимальная температура (воздух) | ~1400°C |
| Отделка поверхности | Шлифовка / дополнительная полировка |
| Совместимость с окружающей средой | Вакуум, плазма, агрессивные газы |
Производственные возможности
Мы поддерживаем передовые технологии обработки керамики, в том числе:
- Прецизионная обработка с ЧПУ
- Шлифование поверхности
- Тонкая притирка и полировка
- Индивидуальная ступенчатая обработка
- Обработка фаски кромок
- Производство с жесткими допусками
- Прототипы и серийное производство
Параметры настройки
Доступные настройки включают в себя:
- Внешний диаметр и толщина
- Высота и ширина ступени
- Требования к плоскостности
- Контроль шероховатости поверхности
- Структура кромок и фаски
- Возможности тонкой полировки
- Производство комплектующих на основе чертежей
Преимущества керамических компонентов SiC
По сравнению с обычными материалами, керамика SiC предлагает:
- Высокая теплопроводность
- Лучшая устойчивость к тепловым ударам
- Превосходная долговечность плазмы
- Низкое тепловое расширение
- Сильная химическая стабильность
- Увеличенный срок службы полупроводникового оборудования
ЧАСТО ЗАДАВАЕМЫЕ ВОПРОСЫ
Вопрос 1: Каково основное назначение ступенчатой структуры?
Ступенчатая геометрия обеспечивает точное позиционирование и надежную сборку внутри технологического оборудования.
Q2: Может ли этот компонент выдерживать воздействие плазменной среды?
Да. Карбид кремния обладает превосходной стойкостью к плазменной эрозии и коррозионным технологическим газам.
Вопрос 3: Совместим ли компонент с вакуумом?
Да. Материал характеризуется низким газовыделением и стабильной работой в условиях вакуума.
Q4: Можно ли настроить размеры?
Да. Размер, профиль шага, допуски и особенности кромок могут быть изготовлены в соответствии с требованиями заказчика.
Q5: Доступны ли полированные версии?
В зависимости от требований, предъявляемых к изделию, может быть выполнена дополнительная тонкая шлифовка и полировка.
Отзывы
Отзывов пока нет.