Перейти к содержимому
xkhlogo
  • Главная
  • О сайте
  • Продукция
  • Приложения
  • Новости
  • Связаться с
  • eric@xkh-semitech.com

Категории

  • Карбид кремния (SiC)
  • Глинозем (Al2O3)
  • Цирконий (ZrO2)
  • Нитрид алюминия (AIN)
  • Нитрид кремния (Si3N4)
  • Нитрид бора (BN)
  • Композитная керамика

высокотемпературная керамика

Показаны все (5)

  • Алюмокерамическая многодырчатая пластина для полупроводниковых и промышленных применений
    Глинозем (Al2O3)

    Алюмокерамическая многодырчатая пластина для полупроводниковых и промышленных применений

  • Пользовательские карбида кремния ступенчатые керамические пластины для полупроводниковых высокой температуры оборудования
    Карбид кремния (SiC)

    Пользовательские карбида кремния ступенчатые керамические пластины для полупроводниковых высокой температуры оборудования

  • Высокочистая керамическая подложка из глинозема Al₂O₃ для полупроводниковых и электронных приложений
    Глинозем (Al2O3)

    Высокочистая керамическая подложка из глинозема Al₂O₃ для полупроводниковых и электронных приложений

  • Высокая чистота SiC лодка пластины для полупроводниковой высокой температуры коррозии устойчивый носитель
    Карбид кремния (SiC)

    Высокая чистота SiC лодка пластины для полупроводниковой высокой температуры коррозии устойчивый носитель

  • SiC-керамические концевые эффекторы для прецизионной обработки пластин в полупроводниковом оборудовании
    Карбид кремния (SiC)

    SiC-керамические концевые эффекторы для прецизионной обработки пластин в полупроводниковом оборудовании

Авторское право © 2026 Шанхайская компания по производству новых материалов Xinkehui, Ltd.
Находится Шанхайская компания по производству новых материалов Xinkehui, Ltd.
Russian
English Japanese Korean German French Italian Spanish Dutch Chinese Portuguese Polish Czech Hungarian Swedish Finnish Vietnamese Thai Turkish Arabic