碳化矽立式爐管專為高溫半導體和光電熱處理應用而設計。它在立式擴散爐中作為關鍵的外部製程管，有助於在高溫作業期間保持穩定的溫度均勻性和受控的製程氣氛。.

爐管採用先進的 3D 列印一體成型技術製造，具有無縫整合結構，無焊接點或組裝薄弱點。這顯著提高了在連續熱循環條件下的機械強度、尺寸穩定性和運行可靠性。.

為符合半導體製造的超潔淨要求，管子表面塗有高純度 CVD 碳化矽 (Chemical Vapor Deposition SiC)。此塗層可將表面雜質含量降至 5 PPM 以下，同時提高耐腐蝕性和使用壽命。.

碳化矽爐管具有優異的熱傳導性、低熱膨脹性和卓越的抗熱震性，可在高達 1300°C 的嚴苛高溫製程環境中提供長期穩定的性能。.

主要功能

單件 3D 列印結構

整合式成型製程消除了焊縫與組裝應力點，大幅提升結構完整性與長期耐用性。.

超高純度材料

• 基本雜質含量：＜ 300 PPM
• CVD SiC 鍍膜後的表面雜質含量： ＜ 5 PPM

超潔淨表面可將半導體晶圓製程中的污染風險降至最低。.

優異的熱傳導性

碳化矽可提供快速且均勻的熱傳導，確保高度一致的爐溫分佈及製程穩定性。.

出色的抗熱震性

爐管可承受反覆的快速加熱與冷卻循環，而不會產生裂痕或變形，減少維修頻率並延長使用壽命。.

優異的耐腐蝕性

CVD 碳化矽塗層對半導體擴散和氧化製程中常用的腐蝕性氣體和惡劣製程氣氛具有極佳的耐受性。.

使用壽命長

與傳統的石英和氧化鋁爐管相比，碳化矽的耐用性、熱穩定性和操作壽命都有顯著的提升。.

應用

半導體製造

廣泛應用於：

• 擴散爐
• 氧化系統
• 退火製程
• LPCVD 熱處理設備
• 晶圓熱處理系統

光電產業

適用於

• 太陽能電池擴散處理
• 矽晶圓鈍化
• 高溫光電製造

先進的熱處理

適用於工業和實驗室環境要求：

• 高熱均勻性
• 超潔淨的加工條件
• 穩定的高溫操作

產品優勢

與傳統的石英爐管相比，碳化矽立爐管具有以下優點：

• 更高的耐溫性
• 更快的熱反應
• 更佳的溫度均勻性
• 降低污染風險
• 優異的抗熱震性
• 優異的耐腐蝕性
• 更長的操作壽命

這些優勢有助於提高生產效率、縮短窯爐停工時間，以及降低整體營運成本。.

技術規格

項目	規格
產品名稱	碳化矽立式爐管
材質	高純度碳化矽
塗層	CVD SiC 鍍膜
製造過程	3D 列印一體成型
基材雜質	＜ 300 PPM
鍍膜後的表面雜質	＜ 5 PPM
最高操作溫度	≤ 1300°C
熱傳導	高
熱膨脹係數	非常低
抗熱衝擊	極佳
耐腐蝕性	極佳
耐磨性	極佳
應用	半導體/光伏熱處理

為何選擇我們的 SiC 立式爐管

我們的碳化矽垂直爐管採用先進的精密加工製程和嚴格的品質控制標準，可滿足半導體級熱系統的苛刻要求。.

結合高純度 SiC 材料、無縫一體成型結構和 CVD 碳化矽塗層，可確保：

• 製程穩定性更高
• 提高晶圓良率
• 減少污染
• 延長窯爐組件壽命

可根據客戶的設備需求，提供客製化尺寸、壁厚和塗層規格。.

常見問題

Q1: 碳化矽立爐管的主要功能是什麼？

爐管可在半導體和光電熱處理系統內維持穩定的高溫製程環境，同時確保溫度均勻性和污染控制。.

Q2: 最高工作溫度是多少？

碳化矽垂直爐管可在高達 1300°C 的溫度下持續運作。.

Q3: 為何使用碳化矽代替石英爐管？

與石英相比，碳化矽可提供：

• 更高的熱導率
• 更好的抗熱震性
• 更長的使用壽命
• 降低污染風險
• 優異的耐腐蝕性

這些優點使 SiC 更適合先進的半導體製造。.