半導體與太陽能光電產業高溫爐系統的碳化矽懸臂墊片

碳化矽 Cantilever Paddle 是先進的高溫載體解決方案,適用於半導體、光電和工業爐應用。它結合了卓越的熱穩定性、高機械強度、耐腐蝕性和超低污染特性,可在嚴苛的加工環境中提供可靠的晶圓處理性能。.

SiC 懸臂墊片具有可客製化的尺寸,並與現代擴散和 LPCVD 系統相容,因此正成為下一代高溫製程的重要元件。.

碳化矽懸臂槳 (SiC Cantilever Paddle) 是由反應結合碳化矽 (RB-SiC) 製成的高性能結構元件。它專為高溫半導體和光電加工設備而設計,在極端操作條件下具有極佳的熱穩定性、機械強度、耐腐蝕性和尺寸精度。.

憑藉其懸臂結構,襯墊可在擴散爐、氧化爐、LPCVD 系統和鍍膜設備內安全地支撐和運送多個晶圓。與傳統的石英或金屬載體系統相比,SiC 懸臂墊具有更長的使用壽命、更低的污染風險以及更出色的抗熱變形能力。.

由於熱膨脹係數低、熱傳導率高,墊片在反覆的加熱與冷卻週期中仍能維持絕佳的結構完整性,因此非常適合連續的高溫工業生產環境。.


SiC 懸臂槳的主要特性

優異的耐高溫性能

SiC 懸臂槳可在高達 1380 °C 的溫度下持續運作,而不會產生變形或結構故障。這使得它非常適用於半導體擴散、氧化、氮化、退火以及工作溫度在 1000-1300 °C 之間的 LPCVD 製程。.

出色的機械強度

RB-SiC 材料即使在溫度升高的情況下也能提供卓越的彎曲強度和剛性。穩定的橫截面設計可確保對大直徑晶圓的可靠支撐,同時最大限度地減少熔爐運行時的振動和下垂。.

超低污染

與金屬載體不同,碳化矽不會在高溫加工過程中釋放金屬離子或微粒。這有助於維持晶圓的清潔度,並提高半導體製造良率。.

優異的抗熱衝擊能力

墊片可承受快速加熱和冷卻循環,而不會破裂或翹曲。它的高抗熱震性能大大延長了操作壽命,並降低了維護頻率。.

優異的耐腐蝕性

SiC 材料對酸、鹼、氧化和腐蝕性製程氣體有極佳的耐受性,因此適用於嚴苛的化學製程環境。.

LPCVD 製程相容性

碳化矽的熱膨脹係數與一般 LPCVD 鍍膜材料非常接近,可有效降低熱應力、鍍層脫層及微粒污染。.

使用壽命長

與石英和金屬墊片相比,SiC 懸臂墊片的耐用性顯著提高,更換頻率減少,降低了長期運營成本。.


技術規格

項目 單位 資料
最高操作溫度 1380
密度 g/cm³ 3.04–3.08
開放孔隙率 % <0.1
彎曲強度 MPa 250 (20℃) / 280 (1200℃)
彈性模數 GPa 330 (20℃) / 300 (1200℃)
熱傳導 W/m-K 45 (1200℃)
熱膨脹係數 K-¹×10-⁶ 4.5
硬度 (Vickers) HV2 ≥2100
耐酸鹼性 極佳

標準尺寸

可用的標準長度包括

  • 2378 公釐
  • 2550 公釐
  • 2660 公釐

可根據客戶的熔爐設計和製程需求,提供客製化尺寸、槽孔結構、晶圓容量和安裝配置。.


典型應用

半導體產業

SiC 懸臂槳廣泛應用於半導體製程中,包括:

  • 晶圓擴散
  • 氧化
  • LPCVD 沉積
  • 氮化
  • 退火
  • 晶圓運輸和裝載

它們的高純度和尺寸穩定性有助於降低污染風險並提高製程一致性。.

光電產業

在太陽能電池製造過程中,墊片可作為高溫晶片的載體:

  • 多晶矽晶圓
  • 單晶矽晶圓
  • 擴散爐
  • PECVD 和塗層系統

這種材料在光電生產線中常見的反覆熱循環條件下仍能保持穩定。.

化學與工業應用

由於其優異的耐腐蝕性,SiC 懸臂槳也可以用於:

  • 腐蝕性化學反應器
  • 高溫循環系統
  • 工業熱處理設備
  • 侵蝕性氣體環境

與金屬或石英槳相比的優勢

財產 SiC 槳 石英槳 金屬槳
耐高溫 極佳 中度 中度
抗熱衝擊 極佳 貧窮 中度
耐腐蝕性 極佳 良好 貧窮
機械強度 非常高
微粒污染 非常低 中度
服務壽命 中度
大型晶圓支援 極佳 有限責任 中度

常見問題 - 碳化矽懸臂槳

1.最高工作溫度是多少?

最高工作溫度為 1380 °C。它在 1000-1300 °C 的高溫半導體和光伏製程中表現可靠。.

2.為何要選擇碳化矽而不是金屬墊片?

金屬墊片在高溫下可能會氧化、變形或釋放金屬雜質。碳化矽具有優異的硬度、熱穩定性、耐腐蝕性和超低污染特性。.

3.攪拌槳是否適合大型晶圓,例如 12 吋晶圓?

懸臂結構和高機械強度可在保持尺寸精度的同時,為大直徑晶圓提供穩定的支撐。.

4.可以客製化嗎?

可以。可根據客戶要求提供客製尺寸、厚度、晶圓容量、插槽設計和安裝結構。.

 

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