Ga naar de inhoud
xkhlogo
  • Home
  • Over
  • Producten
  • Toepassingen
  • Nieuws
  • Neem contact op met
  • eric@xkh-semitech.com

Categorieën

  • Siliciumcarbide (SiC)
  • Aluminiumoxide (Al2O3)
  • Zirkoniumdioxide (ZrO2)
  • Aluminiumnitride (AIN)
  • Siliciumnitride (Si3N4)
  • Boor-nitride (BN)
  • Composiet keramiek

hoge temperatuur keramiek

Toont alle 5 resultaten

  • Alumina keramische plaat met meerdere gaten Technische component op maat voor halfgeleider- en industriële toepassingen
    Aluminiumoxide (Al2O3)

    Alumina keramische plaat met meerdere gaten Technische component op maat voor halfgeleider- en industriële toepassingen

  • Aangepaste siliciumcarbide gestapte keramische plaat voor halfgeleider hoge temperatuur apparatuur
    Siliciumcarbide (SiC)

    Aangepaste siliciumcarbide gestapte keramische plaat voor halfgeleider hoge temperatuur apparatuur

  • Hoogzuiver Al₂O₃ Ceramisch Substraat van Aluminiumoxide voor Halfgeleider en Elektronische Toepassingen
    Aluminiumoxide (Al2O3)

    Hoogzuiver Al₂O₃ Ceramisch Substraat van Aluminiumoxide voor Halfgeleider en Elektronische Toepassingen

  • Hoge zuiverheid SiC wafer boot voor halfgeleider hoge temperatuur corrosiebestendig drager
    Siliciumcarbide (SiC)

    Hoge zuiverheid SiC wafer boot voor halfgeleider hoge temperatuur corrosiebestendig drager

  • SiC keramische eindeffector voor precisie handling van wafers in halfgeleiderapparatuur
    Siliciumcarbide (SiC)

    SiC keramische eindeffector voor precisie handling van wafers in halfgeleiderapparatuur

Copyright © 2026 Shanghai Xinkehui New Materials Co.
Aangedreven door Shanghai Xinkehui New Materials Co.
Dutch
English Japanese Korean German French Italian Spanish Chinese Portuguese Polish Czech Hungarian Swedish Finnish Vietnamese Thai Turkish Arabic Russian