De 99% aluminiumoxide keramische gasdistributiezitting is een hoogwaardig keramisch precisiecomponent ontworpen voor ultrastabiele gasstroomregeling in geavanceerde industriële systemen. Hij is gemaakt van hoogzuiver 99% aluminiumoxide (Al₂O₃) en biedt uitstekende mechanische sterkte, chemische stabiliteit en elektrische isolatie.
Dit onderdeel wordt veel gebruikt in apparatuur voor de productie van halfgeleiders, vacuüm coatingsystemen, plasma-etskamers, CVD- en PECVD-systemen en hoogzuivere gasdistributiemodules.
De belangrijkste functie is zorgen voor een uniforme en stabiele gasdiffusie in de proceskamers, waardoor procesvariatie wordt verminderd, de opbrengst constanter wordt en het risico op vervuiling wordt geminimaliseerd. Vergeleken met metaal, kwarts of keramiek van lagere kwaliteit biedt 99% aluminiumoxide een aanzienlijk betere slijtvastheid, maatvastheid en betrouwbaarheid op de lange termijn.
Materiaalfocus: 99% hoogzuiver aluminiumoxide (Al₂O₃ ≥ 99%)
Dit product is gemaakt van 99% aluminiumoxide keramiek met een hoge dichtheid, dat wordt beschouwd als een van de meest stabiele en meest gebruikte geavanceerde technische keramiek in industriële precisieomgevingen.
Belangrijkste materiaaleigenschappen:
- Extreem hoge hardheid voor langdurige slijtvastheid
- Uitstekend bestand tegen plasma, zuren en alkalische omgevingen
- Hoge elektrische isolatie voor hoogspannings- en plasmasystemen
- Superieure dimensionale stabiliteit bij thermische cycli
- Zeer lage deeltjesproductie voor cleanroomtoepassingen
- Lange levensduur bij continu industrieel gebruik
Vergeleken met aluminiumoxide 95% biedt aluminiumoxide 99% een hogere hardheid, betere slijtvastheid en verbeterde structurele stabiliteit, waardoor het geschikter is voor hoogwaardige halfgeleider- en precisiecoatingsystemen.
Functioneel ontwerpprincipe
De keramische gasdistributiezitting is ontworpen met een nauwkeurig gecontroleerde poreuze structuur of microkanaalsysteem. Deze structuur zorgt voor een gecontroleerde diffusie van procesgassen in vacuüm- of reactiekamers.
Tot de kerntaken behoren:
- Gelijkmatige gasverdeling over het hele procesoppervlak
- Stabiele drukbalancering voor consistente procesomstandigheden
- Vermindering van turbulentie en plaatselijke stromingsconcentratie
- Verbeterde uniformiteit van dunne filmdepositie en etsen
- Minimalisering van deeltjesvervuiling en procesdefecten
De poriestructuur kan worden aangepast aan specifieke stroomsnelheden, gassoorten en kamerconfiguraties.
Belangrijkste prestatievoordelen van 99% aluminiumoxide
- Hogere slijtvastheid vergeleken met aluminiumoxide 95% en kwarts
- Uitstekende corrosiebestendigheid in plasma- en reactieve gasomgevingen
- Superieure elektrische isolatie die stroomlekkage voorkomt
- Sterke mechanische stabiliteit onder druk en trillingen
- Uitstekende thermische stabiliteit voor verwerkingssystemen bij hoge temperaturen
- Ultralaag vervuilingsrisico geschikt voor gebruik in cleanrooms voor halfgeleiders
- Lange levensduur met lagere onderhoudsfrequentie
Vergelijking van materiaalprestaties
| Eigendom | 99% aluminiumoxide (Al₂O₃ ≥ 99%) | 95% Aluminiumoxide | Zirkonia | Steatiet |
|---|---|---|---|---|
| Dichtheid (g/cm³) | 3.85 | 3.65 | 5.9 | 2.8 |
| Waterabsorptie (%) | 0 | 0 | 0 | 0 |
| Sintertemperatuur (℃) | 1690 | 1670 | 1650 | 1350 |
| Hardheid (HV) | 1700 | 1600 | 1400 | 800 |
| Buigsterkte (MPa) | >350 | >290 | >1100 | 90 |
| Druksterkte (Kgf/cm²) | 30000 | 25000 | 25000 | 4000 |
| Maximale bedrijfstemperatuur (℃) | 1500 | 1400 | 1600 | 1100 |
| Thermische uitzetting (×10-⁶/℃) | 8 | 7.8 | 10 | 6 |
| Weerstand tegen thermische schokken (ΔT ℃) | 200 | 220 | 350 | 200 |
| Warmtegeleidingsvermogen (W/m-K) | 3 | 2 | 3 | 2.5 |
| Volumeweerstandsvermogen (Ω-cm) | >10¹² | >10¹² | >10¹² | 10¹² |
| Diëlektrische sterkte (KV/mm) | 18 | 16 | 15 | 10 |
| Diëlektrische constante (1MHz) | 9.2-10.5 | 9.0-10 | 12 | 5.8 |
Technische parameters
| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Materiaal | 99% zeer zuiver aluminiumoxide (Al₂O₃ ≥ 99%) |
| Structuur Type | Poreuze schijf / doucheplaat / ring |
| Vorm | Ronde / aangepaste geometrie |
| Dichtheid | 3,85 g/cm³ |
| Hardheid | ~1700 HV |
| Buigsterkte | >350 MPa |
| Druksterkte | ≥30000 Kgf/cm² |
| Max. bedrijfstemperatuur | Tot 1500°C (afhankelijk van omgeving) |
| Elektrische weerstand | >10¹² Ω-cm |
| Diëlektrische sterkte | ~18 KV/mm |
| Oppervlakteruwheid | Ra ≤ 0,2 μm (precisiegebieden) |
| Tolerantie vlakheid | ±5-10 μm |
| Tolerantie bij machinale bewerking | ±0,01 mm |
| Porositeitsontwerp | Volledig aanpasbare microporeuze structuur |
Toepassingsgebieden
- Systemen voor de verwerking van halfgeleiderwafers
- Plasma-ets- en reinigingsapparatuur
- PECVD / CVD / PVD systemen voor dunne-filmdepositie
- Vacuüm gasverdeelkamers
- Zeer zuivere chemische reactiesystemen
- Precisie gasregelsystemen voor industriële ovens
- Laboratoriumapparatuur voor zeer nauwkeurige gasdiffusie
Technische opties op maat
Deze 99% aluminiumoxide keramische gasdistributiezitting kan volledig op maat worden gemaakt:
- Buitendiameter en dikte
- Ontwerp van porositeitsdichtheid en stroomverdeling
- Optimalisatie van micro-gat- of kanaalstructuur
- Oppervlaktepolijsten en afwerkingsgraad
- Vlakheid en afdichtingsinterfaceprecisie
- Integratie met metalen montage- of afdichtingsstructuren
- Toepassingsspecifieke kalibratie van gasstromen
Technische ondersteuning is beschikbaar voor het afstemmen van het systeem en het optimaliseren van de prestaties.
Productieproces
- Poederbereiding van hoogzuiver 99% aluminiumoxide
- Isostatisch persen of droog persen
- Sinteren op hoge temperatuur bij ~1690°C
- CNC precisiebewerking
- Laser- of microboren voor poreuze structuur (indien nodig)
- Precisieslijpen en -polijsten
- Dimensionale inspectie en lektests
- Definitieve kwaliteitsvalidatie
Strikte procescontrole garandeert consistentie, stabiliteit en betrouwbaarheid op lange termijn in hoogwaardige toepassingen.
Veelgestelde vragen
V1: Waarom kiezen voor 99% aluminiumoxide in plaats van 95% aluminiumoxide?
99% aluminiumoxide heeft een hogere hardheid, een betere slijtvastheid en een verbeterde chemische stabiliteit. Het is geschikter voor toepassingen met gasdistributie van halfgeleiderkwaliteit en hoge precisie, waar controle op vervuiling kritisch is.
V2: Kan de poreuze structuur worden ontworpen volgens mijn apparatuur?
Ja. De poriegrootte, dichtheid en verdeling kunnen volledig worden aangepast aan het gastype, de druk en het kamerontwerp voor een optimale stroomuniformiteit.
V3: Is 99% aluminiumoxide geschikt voor plasma-omgevingen?
Ja. 99% aluminiumoxide is uitstekend bestand tegen plasma en behoudt structurele stabiliteit bij langdurige blootstelling aan reactieve gassen en hoogenergetische plasmasystemen.
Beoordelingen
Er zijn nog geen beoordelingen.