SiC-kerámia végberendezés a precíziós ostyakezeléshez félvezető berendezésekben

A SiC kerámia végfokozó egy nagy teljesítményű ostyakezelő alkatrész, amelyet félvezető automatizálási és precíziós robotikai rendszerekhez terveztek. Rendkívül nagy tisztaságú szilíciumkarbid (SiC) kerámiából készül, amely kiemelkedő mechanikai szilárdságot, hőstabilitást és vegyi ellenállást biztosít a szélsőséges technológiai környezetekben.

A SiC kerámia végfokozó egy nagy teljesítményű ostyakezelő alkatrész, amelyet félvezető automatizálási és precíziós robotikai rendszerekhez terveztek. Rendkívül nagy tisztaságú szilíciumkarbid (SiC) kerámiából készül, amely kiemelkedő mechanikai szilárdságot, hőstabilitást és vegyi ellenállást biztosít a szélsőséges technológiai környezetekben.

A hagyományos alumínium, rozsdamentes acél vagy kvarc véghatásokhoz képest a SiC kerámia végfokozó jelentősen alacsonyabb részecskeképződést, kiváló méretstabilitást és a hődeformációval szembeni kiváló ellenállást biztosít. Széles körben használják a szeletátviteli rendszerekben, ahol a pontosság, a tisztaság és a megbízhatóság kritikus fontosságú.

Ez a termék alkalmas fejlett félvezetőgyártási környezetekhez, beleértve a vákuumkamrákat, plazmafolyamatokat és magas hőmérsékletű berendezéseket.


Műszaki specifikációk

Ingatlan Egység Érték
Kristályszerkezet - FCC β Fázis
Sűrűség g/cm³ 3.21
Kémiai tisztaság % 99.99995
Keménység HV 2500
Hajlítószilárdság MPa 415
Young modulus GPa 430
Hővezető képesség W/m-K 300
Hőtágulási együttható 10-⁶/K 4.5
Maximális üzemi hőmérséklet °C 2700
Hőkapacitás J-kg-¹-K-¹ 640
Szemcseméret μm 2-10

Fő jellemzők

Ultra nagy tisztaságú anyag
Minimális részecskeszennyezést biztosít tisztaszobai környezetben.

Kiváló hőstabilitás
Fenntartja a szerkezeti integritást ismételt hőciklusok és magas hőmérsékletű feldolgozás során.

Alacsony hőtágulás
Nagy méretpontosságot biztosít a szeletátviteli műveletek során.

Nagy mechanikai szilárdság
Ellenáll a törésnek, kopásnak és a hosszú távú fáradásnak a folyamatos gyártórendszerekben.

Kémiai ellenállás
Stabil plazmában, korrozív gázokban és vákuumban.

Ultra sima felületkezelés
Csökkenti az ostyák karcolódását és javítja a kezelés biztonságát.

Hosszú élettartam
Nagy áteresztőképességű félvezetőgyártó rendszerekhez tervezték.


Gyártási folyamat

A SiC kerámia végfokozó fejlett kerámiamérnöki technikával készül.

A nagy tisztaságú szilíciumkarbid port kiválasztják és szigorúan ellenőrzik az anyag konzisztenciájának biztosítása érdekében.

A precíziós alakítás hideg izosztatikus préseléssel vagy fröccsöntéssel történik az összetett geometriák elérése érdekében.

A 2000 °C feletti magas hőmérsékletű szinterezés biztosítja a teljes sűrűsödést és a szerkezeti stabilitást.

CNC gyémántmegmunkálással mikronos pontosságot és ostyaszintű síkosságot érünk el.

A végső polírozás és ellenőrzés biztosítja a félvezető minőségű szabványoknak való megfelelést.

Minden termék szigorú méretellenőrzésen, felületi minőségvizsgálaton és roncsolásmentes értékelésen megy keresztül a szállítás előtt.


Alkalmazások

A SiC kerámia végfokozó széles körben használják a félvezető- és nagy pontosságú automatizálási rendszerekben.

Wafer transzfer rendszerek 6, 8 és 12 hüvelykes ostyákhoz

Robotizált ostyakezelő rendszerek vákuumkamrákban

CVD, ALD, maratási és leválasztási berendezések

FOUP és FOSB automatizált be- és kirakodási rendszerek

Tisztaszobai wafer automatizálási gyártósorok

Lézermegmunkáló és hőkezelő rendszerek


Előnyök a hagyományos anyagokhoz képest

Az alumínium véghatásokhoz képest a SiC-kerámia jobb hőstabilitást biztosít, és kiküszöböli a fémszennyezés kockázatát.

A kvarccal összehasonlítva nagyobb mechanikai szilárdságot és alacsonyabb szemcseképződést biztosít.

A rozsdamentes acélhoz képest megbízhatóbban működik plazma és magas hőmérsékletű környezetben.


GYIK

Miért válassza a SiC kerámia végfokozót fém vagy kvarc helyett?
A SiC-kerámia kiváló hőstabilitást, vegyi ellenállást és rendkívül alacsony részecske keletkezést biztosít, így ideális a fejlett félvezető folyamatokhoz.

Testre szabható?
Igen, támogatjuk a teljes testreszabást, beleértve a geometriát, a kar hosszát, a rögzítőfelületet és az ostyaméret-kompatibilitást.

Alkalmas vákuum- és plazmarendszerekhez?
Igen, a SiC-kerámia kémiailag inert, és megbízhatóan működik ultramagas vákuum- és plazmakörnyezetben.

Mennyi az élettartam?
A hagyományos fém vagy kvarc véghatásokhoz képest lényegesen hosszabb élettartamot kínál a szokásos működési feltételek mellett.

Adnak vizsgálati jelentéseket?
Igen, kérésre méretjelentéseket, anyagtanúsítványokat és minőségellenőrzési dokumentációt biztosítunk.

Értékelések

Még nincsenek értékelések.

„SiC Ceramic End Effector for Precision Wafer Handling in Semiconductor Equipment” értékelése elsőként

Az e-mail címet nem tesszük közzé. A kötelező mezőket * karakterrel jelöltük