Zum Inhalt springen
xkhlogo
  • Startseite
  • Über
  • Produkte
  • Anwendungen
  • Nachrichten
  • Kontakt
  • eric@xkh-semitech.com

Kategorien

  • Siliziumkarbid (SiC)
  • Tonerde (Al2O3)
  • Zirkoniumdioxid (ZrO2)
  • Aluminiumnitrid (AIN)
  • Siliziumnitrid (Si3N4)
  • Bornitrid (BN)
  • Komposit-Keramik

Präzisionskeramikkomponenten

Alle 6 Ergebnisse werden angezeigt

  • Aluminiumoxid-Keramik-Gasverteilersitz für die Präzisions-Gasdurchflusskontrolle Verschleißfeste elektrische Isolierkomponente
    Tonerde (Al2O3)

    Aluminiumoxid-Keramik-Gasverteilersitz für die Präzisions-Gasdurchflusskontrolle Verschleißfeste elektrische Isolierkomponente

  • Kundenspezifische Zirconia ZrO₂-Keramikformen mit Lasergravur und Markierung
    Zirkoniumdioxid (ZrO2)

    Kundenspezifische Zirconia ZrO₂-Keramikformen mit Lasergravur und Markierung

  • Kundenspezifischer SiC-Keramik-Bootträger für die Handhabung von Halbleiterwafern
    Siliziumkarbid (SiC)

    Kundenspezifischer SiC-Keramik-Bootträger für die Handhabung von Halbleiterwafern

  • Halbleiter-Keramik-Endeffektor für Wafer-Handling und industrielle Automatisierung
    Siliziumkarbid (SiC)

    Halbleiter-Keramik-Endeffektor für Wafer-Handling und industrielle Automatisierung

  • SiC-Keramik-Endeffektor für die präzise Handhabung von Wafern in Halbleiteranlagen
    Siliziumkarbid (SiC)

    SiC-Keramik-Endeffektor für die präzise Handhabung von Wafern in Halbleiteranlagen

  • Kundenspezifische Komponenten aus Zirkoniumdioxid Hochpräzise Teile aus Zirkoniumoxid für industrielle Anwendungen
    Zirkoniumdioxid (ZrO2)

    Kundenspezifische Komponenten aus Zirkoniumdioxid Hochpräzise Teile aus Zirkoniumoxid für industrielle Anwendungen

Copyright © 2026 Shanghai Xinkehui New Materials Co, Ltd.
Angetrieben durch Shanghai Xinkehui New Materials Co, Ltd.
German
English Japanese Korean French Italian Spanish Dutch Chinese Portuguese Polish Czech Hungarian Swedish Finnish Vietnamese Thai Turkish Arabic Russian