Hoppa till innehåll
xkhlogo
  • Hem
  • Om
  • Produkter
  • Tillämpningar
  • Nyheter
  • Kontakt
  • eric@xkh-semitech.com

Kategorier

  • Kiselkarbid (SiC)
  • Aluminiumoxid (Al2O3)
  • Zirkoniumdioxid (ZrO2)
  • Aluminiumnitrid (AIN)
  • Kiselnitrid (Si3N4)
  • Bortrid (BN)
  • Komposit Keramik

keramiska komponenter med hög precision

Visar alla 6 resultat

  • Gasfördelningssäte av aluminiumoxidkeramik för precisionsstyrning av gasflöden Slitstark elektrisk isoleringskomponent
    Aluminiumoxid (Al2O3)

    Gasfördelningssäte av aluminiumoxidkeramik för precisionsstyrning av gasflöden Slitstark elektrisk isoleringskomponent

  • Anpassade keramiska formar av zirkoniumdioxid ZrO₂ med lasergravering och märkning
    Zirkoniumdioxid (ZrO2)

    Anpassade keramiska formar av zirkoniumdioxid ZrO₂ med lasergravering och märkning

  • Kundanpassad SiC-keramisk båtbärare för hantering av halvledarwafers
    Kiselkarbid (SiC)

    Kundanpassad SiC-keramisk båtbärare för hantering av halvledarwafers

  • Keramisk endeffektor för halvledare för waferhantering och industriell automation
    Kiselkarbid (SiC)

    Keramisk endeffektor för halvledare för waferhantering och industriell automation

  • SiC-keramisk endeffektor för precisionshantering av wafers i halvledarutrustning
    Kiselkarbid (SiC)

    SiC-keramisk endeffektor för precisionshantering av wafers i halvledarutrustning

  • Kundanpassade komponenter av zirkoniumdioxidkeramik Delar av zirkoniumoxid med hög precision för industriella tillämpningar
    Zirkoniumdioxid (ZrO2)

    Kundanpassade komponenter av zirkoniumdioxidkeramik Delar av zirkoniumoxid med hög precision för industriella tillämpningar

Upphovsrätt © 2026 Shanghai Xinkehui New Materials Co, Ltd.
Drivs av Shanghai Xinkehui New Materials Co, Ltd.
Swedish
English Japanese Korean German French Italian Spanish Dutch Chinese Portuguese Polish Czech Hungarian Finnish Vietnamese Thai Turkish Arabic Russian