Halbleiter-Keramik-Komponenten

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  Tonerde (Al2O3)

  Aluminiumoxid-Keramikstäbe für Halbleiter- und Industrieanwendungen

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  Siliziumkarbid (SiC)

  SiC-Keramiktablett für die Waferverarbeitung und kundenspezifische Halbleiteranwendungen