![\"Gasf\u00f6rdelningss\u00e4te](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-1-300x300.png\")
99% Alumina Ceramic Gas Distribution Seat \u00e4r en h\u00f6gpresterande keramisk precisionskomponent som \u00e4r utformad f\u00f6r ultrastabil gasfl\u00f6deskontroll i avancerade industriella system. Den \u00e4r tillverkad av aluminiumoxid 99% (Al\u2082O\u2083) med h\u00f6g renhet och erbjuder enast\u00e5ende mekanisk h\u00e5llfasthet, kemisk stabilitet och elektrisk isoleringsprestanda.<\/p>\n
Denna komponent anv\u00e4nds ofta i utrustning f\u00f6r tillverkning av halvledare, vakuumbel\u00e4ggningssystem, plasmaetsningskammare, CVD- och PECVD-system och distributionsmoduler f\u00f6r h\u00f6gren gas.<\/p>\n
Dess k\u00e4rnfunktion \u00e4r att s\u00e4kerst\u00e4lla en j\u00e4mn och stabil gasdiffusion \u00f6ver processkamrarna, vilket minskar processvariationen, f\u00f6rb\u00e4ttrar utbyteskonsistensen och minimerar kontamineringsriskerna. J\u00e4mf\u00f6rt med metall, kvarts eller keramik av l\u00e4gre kvalitet ger 99% aluminiumoxid betydligt b\u00e4ttre slitstyrka, dimensionsstabilitet och l\u00e5ngsiktig tillf\u00f6rlitlighet.<\/p>\n
Denna produkt \u00e4r tillverkad av h\u00f6gdensitets 99% aluminiumoxidkeramik, som anses vara en av de mest stabila och mest anv\u00e4nda avancerade tekniska keramerna i precisionsindustriella milj\u00f6er.<\/p>\n
![\"Gasf\u00f6rdelningss\u00e4te](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-2-300x300.png\")
Viktiga materialegenskaper:<\/h3>\nJ\u00e4mf\u00f6rt med 95%-aluminiumoxid ger 99%-aluminiumoxid h\u00f6gre h\u00e5rdhet, b\u00e4ttre slitstyrka och f\u00f6rb\u00e4ttrad strukturell stabilitet, vilket g\u00f6r den mer l\u00e4mplig f\u00f6r avancerade halvledar- och precisionsbel\u00e4ggningssystem.<\/p>\n
Det keramiska gasf\u00f6rdelningss\u00e4tet \u00e4r konstruerat med en exakt kontrollerad por\u00f6s struktur eller ett mikrokanalsystem. Denna struktur m\u00f6jligg\u00f6r kontrollerad diffusion av processgaser inuti vakuum- eller reaktionskammare.<\/p>\n
Porstrukturen kan konstrueras f\u00f6r att passa specifika fl\u00f6deshastigheter, gastyper och kammarkonfigurationer.<\/p>\n
![\"Gasf\u00f6rdelningss\u00e4te](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-3-300x300.png\")
Viktiga prestandaf\u00f6rdelar med 99% Alumina<\/h2>\n| Fastighet<\/th>\n | 99% Aluminiumoxid (Al\u2082O\u2083 \u2265 99%)<\/th>\n | 95% Aluminiumoxid<\/th>\n | Zirkonia<\/th>\n | Steatit<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Densitet (g\/cm\u00b3)<\/td>\n | 3.85<\/td>\n | 3.65<\/td>\n | 5.9<\/td>\n | 2.8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Absorption av vatten (%)<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Sintringstemperatur (\u2103)<\/td>\n | 1690<\/td>\n | 1670<\/td>\n | 1650<\/td>\n | 1350<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| H\u00e5rdhet (HV)<\/td>\n | 1700<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 800<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| B\u00f6jh\u00e5llfasthet (MPa)<\/td>\n | >350<\/td>\n | >290<\/td>\n | >1100<\/td>\n | 90<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Tryckh\u00e5llfasthet (Kgf\/cm\u00b2)<\/td>\n | 30000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 4000<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Maximal driftstemperatur (\u2103)<\/td>\n | 1500<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1100<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| V\u00e4rmeutvidgning (\u00d710-\u2076\/\u2103)<\/td>\n | 8<\/td>\n | 7.8<\/td>\n | 10<\/td>\n | 6<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Motst\u00e5nd mot termisk chock (\u0394T \u2103)<\/td>\n | 200<\/td>\n | 220<\/td>\n | 350<\/td>\n | 200<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Termisk konduktivitet (W\/m-K)<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2.5<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Volymresistivitet (\u03a9-cm)<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | 10\u00b9\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Dielektrisk h\u00e5llfasthet (KV\/mm)<\/td>\n | 18<\/td>\n | 16<\/td>\n | 15<\/td>\n | 10<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Dielektrisk konstant (1MHz)<\/td>\n | 9.2-10.5<\/td>\n | 9.0-10<\/td>\n | 12<\/td>\n | 5.8<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n \n Tekniska parametrar<\/h2>\n\n
|