{"id":2331,"date":"2026-05-29T03:20:28","date_gmt":"2026-05-29T03:20:28","guid":{"rendered":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/?post_type=product&#038;p=2331"},"modified":"2026-05-29T03:21:23","modified_gmt":"2026-05-29T03:21:23","slug":"silicon-carbide-horizontal-process-tube-for-lpcvd-cvd-semiconductor-processes","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/product\/silicon-carbide-horizontal-process-tube-for-lpcvd-cvd-semiconductor-processes\/","title":{"rendered":"Siliciumcarbide horizontale procesbuis voor LPCVD\/CVD halfgeleiderprocessen"},"content":{"rendered":"<p class=\"isSelectedEnd\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2332 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>De horizontale procesbuis voor siliciumcarbide (SiC) is ontworpen voor LPCVD-, CVD-, diffusie-, oxidatie- en gloeitoepassingen op hoge temperatuur bij de productie van halfgeleiders, fotovolta\u00efsche en geavanceerde materialen.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Als kerncomponent van de reactiekamer in horizontale thermische verwerkingssystemen heeft de procesbuis een directe invloed op de temperatuuruniformiteit, de controle op vervuiling, de processtabiliteit en de algehele levensduur van de apparatuur.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Onze SiC horizontale procesbuizen worden vervaardigd met behulp van geavanceerde monolithische 3D-printtechnologie in combinatie met ultrazuivere CVD siliciumcarbide coating. De naadloze structuur uit \u00e9\u00e9n stuk elimineert lasnaden en assemblage-gerelateerde zwakke punten, waardoor de mechanische betrouwbaarheid en lekbestendigheid bij continu gebruik op hoge temperatuur sterk verbeteren.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Vergeleken met conventionele kwarts procesbuizen biedt siliciumcarbide een aanzienlijk hogere thermische geleidbaarheid, een betere weerstand tegen thermische schokken, een superieure weerstand tegen corrosie en een langere operationele levensduur, vooral in agressieve oxiderende en chloorhoudende procesomgevingen.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Het product is geoptimaliseerd voor schone verwerkingsomgevingen van halfgeleidergrade die een lage deeltjesgeneratie, een lage metaalvervuiling en stabiele thermische prestaties tot 1250\u00b0C vereisen.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Belangrijkste kenmerken<\/h1>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2333 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Monolithische structuur uit \u00e9\u00e9n stuk SiC<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">De ge\u00efntegreerde 3D-geprinte behuizing van siliciumcarbide elimineert naden, soldeerpunten en potenti\u00eble lekkagepaden die in traditionele geassembleerde structuren te vinden zijn.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Voordelen zijn onder andere:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Hogere structurele stabiliteit<\/li>\n<li>Verbeterde vacu\u00fcmintegriteit<\/li>\n<li>Betere dimensionale consistentie<\/li>\n<li>Verminderde thermische stressconcentratie<\/li>\n<\/ul>\n<h2>CVD SiC-coating met ultrahoge zuiverheid<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">De dichte CVD siliciumcarbide coating zorgt voor:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Oppervlakteverontreinigingen onder 5 ppm<\/li>\n<li>Uitstekende chemische inertie<\/li>\n<li>Minder vervuiling door deeltjes<\/li>\n<li>Superieure weerstand tegen oxidatie en chloorhoudende gassen<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Dit maakt de procesbuis geschikt voor geavanceerde thermische verwerkingstoepassingen voor halfgeleiders.<\/p>\n<h2>Uitstekend warmtegeleidingsvermogen<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Siliciumcarbide heeft een veel hoger warmtegeleidingsvermogen dan kwarts of aluminiumoxide, wat helpt:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Snellere thermische respons<\/li>\n<li>Verbeterde axiale en radiale temperatuuruniformiteit<\/li>\n<li>Stabiele condities voor verwerking van wafers<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Uitstekende weerstand tegen thermische schokken<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">De buis is bestand tegen herhaalde snelle opwarm- en afkoelcycli zonder barsten, vervorming of afsplintering van de coating.<\/p>\n<h2>Lange levensduur<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Vergeleken met kwarts procesbuizen bieden SiC buizen:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Langere vervangingsintervallen<\/li>\n<li>Lagere onderhoudsfrequentie<\/li>\n<li>Minder uitvaltijd in de kamer<\/li>\n<li>Verbeterde totale eigendomskosten (TCO)<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Typische toepassingen<\/h1>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2334 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Productie van halfgeleiders<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Geschikt voor:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>LPCVD-systemen<\/li>\n<li>CVD-depositieapparatuur<\/li>\n<li>Oxidatieovens<\/li>\n<li>Diffusieovens<\/li>\n<li>Gloeisystemen<\/li>\n<li>Thermische behandelingsprocessen voor wafers<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Fotovolta\u00efsche industrie<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Gebruikt in:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Diffusieverwerking van zonnecellen<\/li>\n<li>Oppervlakte passivering<\/li>\n<li>Afzetting van dunne film<\/li>\n<li>Behandeling van wafers bij hoge temperatuur<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Geavanceerde materiaalverwerking<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Van toepassing op:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Carbonisatieprocessen<\/li>\n<li>Nitridatiebehandeling<\/li>\n<li>Functionele dunnefilmvorming<\/li>\n<li>Activering en modificatie van het oppervlak<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Procescompatibiliteit<\/h1>\n<h2>Compatibele procesatmosferen<\/h2>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Zuurstof (O\u2082)<\/li>\n<li>Stikstof (N\u2082)<\/li>\n<li>Hoogzuivere inerte gassen<\/li>\n<li>Gecontroleerde chloorhoudende gassen<\/li>\n<li>Oxiderende atmosferen<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Typisch procesvenster<\/h2>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<th>Parameter<\/th>\n<th>Specificatie<\/th>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Maximale continue bedrijfstemperatuur<\/td>\n<td>1250\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Drukbereik<\/td>\n<td>LPCVD vacu\u00fcm tot bijna atmosferisch<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Weerstand tegen thermische schokken<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Lekdichtheid<\/td>\n<td>\u2264 1\u00d710-\u2079 Pa-m\u00b3\/s<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Oppervlakteruwheid<\/td>\n<td>Ra \u2264 0,8-1,6 \u00b5m<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Zuiverheid van de coating<\/td>\n<td>\uff1c 5 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Substraat Onzuiverheid<\/td>\n<td>\uff1c 300 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Technische specificaties<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Item<\/td>\n<td>Specificatie<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Productnaam<\/td>\n<td>Siliciumcarbide horizontale procesbuis<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Materiaal<\/td>\n<td>Hoogzuiver siliciumcarbide<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Coating<\/td>\n<td>CVD SiC-coating<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Productieproces<\/td>\n<td>Monolithisch 3D printen<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Maximale bedrijfstemperatuur<\/td>\n<td>\u2264 1250\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Thermische geleidbaarheid<\/td>\n<td>Hoog<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Weerstand tegen thermische schokken<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Corrosiebestendigheid<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Oppervlakteruwheid<\/td>\n<td>Ra \u2264 0,8-1,6 \u00b5m<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Onzuiverheden coating<\/td>\n<td>\uff1c 5 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Lekdichtheid<\/td>\n<td>\u2264 1\u00d710-\u2079 Pa-m\u00b3\/s<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Typische toepassingen<\/td>\n<td>LPCVD \/ CVD \/ Diffusie \/ Oxidatie<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Voordelen ten opzichte van traditionele procesbuizen<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Eigendom<\/td>\n<td>SiC-procesbuis<\/td>\n<td>Kwartsbuis<\/td>\n<td>Aluminiumoxide buis<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Thermische geleidbaarheid<\/td>\n<td>Hoog<\/td>\n<td>Laag<\/td>\n<td>Laag<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Weerstand tegen thermische schokken<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<td>Zwak<\/td>\n<td>Matig<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Corrosiebestendigheid<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<td>Matig<\/td>\n<td>Goed<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Deeltjesregeling<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<td>Matig<\/td>\n<td>Matig<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Levensduur<\/td>\n<td>Lang<\/td>\n<td>Kort<\/td>\n<td>Medium<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Stabiliteit bij hoge temperatuur<\/td>\n<td>Uitstekend<\/td>\n<td>Matig<\/td>\n<td>Goed<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Aanpassingsopties<\/h1>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Aangepaste specificaties zijn beschikbaar op basis van de apparatuurvereisten van de klant, inclusief:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Buisdiameter en -lengte<\/li>\n<li>Wanddikte optimalisatie<\/li>\n<li>Flens- en interfacestructuren<\/li>\n<li>Functionele gaspoorten<\/li>\n<li>Binnen\/buiten coating configuraties<\/li>\n<li>Oppervlaktepolijstkwaliteiten<\/li>\n<li>Netheidsnormen<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>FAQ<\/h1>\n<h2>V1: Waarom kiezen voor siliciumcarbide in plaats van kwarts procesbuizen?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Siliciumcarbide biedt een hogere thermische geleidbaarheid, minder vervuiling, een betere weerstand tegen thermische schokken en een aanzienlijk langere levensduur dan kwarts, vooral in halfgeleiderprocessen bij hoge temperaturen.<\/p>\n<h2>V2: Welke processen zijn compatibel met deze buis?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">De buis is geschikt voor LPCVD, CVD, diffusie, oxidatie, gloeien, passiveren en andere thermische verwerkingstoepassingen bij hoge temperatuur.<\/p>\n<h2>V3: Kan de buis worden gebruikt in chloorhoudende omgevingen?<\/h2>\n<p>Ja. De CVD SiC coating biedt uitstekende weerstand tegen gecontroleerde chloorhoudende procesomgevingen.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p class=\"isSelectedEnd\">De horizontale procesbuis voor siliciumcarbide (SiC) is ontworpen voor LPCVD-, CVD-, diffusie-, oxidatie- en gloeitoepassingen op hoge temperatuur bij de productie van halfgeleiders, fotovolta\u00efsche en geavanceerde materialen.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Als kerncomponent van de reactiekamer in horizontale thermische verwerkingssystemen heeft de procesbuis een directe invloed op de temperatuuruniformiteit, de controle op vervuiling, de processtabiliteit en de algehele levensduur van de apparatuur.<\/p>","protected":false},"featured_media":2334,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[23],"product_tag":[625,626,602,624,609,603,629,627,623,628,622],"class_list":["post-2331","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_cat-silicon-carbide-sic","product_tag-cvd-process-tube","product_tag-cvd-sic-coated-tube","product_tag-high-purity-silicon-carbide-tube","product_tag-lpcvd-process-tube","product_tag-semiconductor-process-tube","product_tag-semiconductor-thermal-processing-tube","product_tag-sic-cvd-tube","product_tag-sic-furnace-tube","product_tag-sic-horizontal-process-tube","product_tag-sic-lpcvd-tube","product_tag-silicon-carbide-horizontal-process-tube","desktop-align-left","tablet-align-left","mobile-align-left","ast-product-gallery-layout-horizontal-slider","ast-product-tabs-layout-horizontal","first","instock","shipping-taxable","product-type-simple"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2331","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2331"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2334"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2331"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2331"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2331"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2331"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}