{"id":2335,"date":"2026-05-29T03:42:15","date_gmt":"2026-05-29T03:42:15","guid":{"rendered":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/?post_type=product&#038;p=2335"},"modified":"2026-05-29T03:42:16","modified_gmt":"2026-05-29T03:42:16","slug":"sic-ceramic-tray-for-wafer-processing-custom-semiconductor-applications","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/product\/sic-ceramic-tray-for-wafer-processing-custom-semiconductor-applications\/","title":{"rendered":"Vassoio in ceramica SiC per la lavorazione dei wafer e le applicazioni personalizzate dei semiconduttori"},"content":{"rendered":"<p class=\"isSelectedEnd\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2336 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-4.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Il vassoio in ceramica SiC \u00e8 un supporto in carburo di silicio ad alte prestazioni progettato per la lavorazione avanzata dei wafer e per gli ambienti di produzione dei semiconduttori. Progettati con materiale ceramico in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza, questi vassoi offrono un'eccezionale stabilit\u00e0 termica, un'elevata resistenza meccanica e un'eccellente resistenza chimica per le applicazioni ad alta temperatura pi\u00f9 impegnative.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I vassoi in ceramica SiC sono ampiamente utilizzati nei processi di fabbricazione dei semiconduttori come:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Trattamento LPCVD \/ CVD<\/li>\n<li>Ricottura dei wafer<\/li>\n<li>Diffusione<\/li>\n<li>Ossidazione<\/li>\n<li>Epitassia (EPI)<\/li>\n<li>Sinterizzazione ad alta temperatura<\/li>\n<li>Trattamento termico dei semiconduttori<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Disponibile per:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Lavorazione di wafer da 2 pollici<\/li>\n<li>Lavorazione di wafer da 4 pollici<\/li>\n<li>Lavorazione di wafer da 6 pollici<\/li>\n<li>Lavorazione di wafer da 8 pollici<\/li>\n<li>Dimensioni e strutture dei wafer personalizzate<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Questi vassoi garantiscono un eccellente supporto dei wafer, l'uniformit\u00e0 della temperatura e il controllo della contaminazione durante l'intero processo di produzione.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Caratteristiche del prodotto<\/h1>\n<h2>Eccellente resistenza alle alte temperature<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I vassoi in ceramica di carburo di silicio mantengono un'eccezionale stabilit\u00e0 a temperature estreme, rendendoli ideali per applicazioni in forni per semiconduttori e sistemi di elaborazione termica.<\/p>\n<h3>Vantaggi:<\/h3>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Eccellente resistenza agli shock termici<\/li>\n<li>Prestazioni stabili durante il riscaldamento e il raffreddamento rapido<\/li>\n<li>Lunga durata in caso di funzionamento continuo ad alta temperatura<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Alta resistenza meccanica<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Rispetto ai materiali ceramici convenzionali, i vassoi in SiC offrono una durezza e una resistenza alla flessione superiori, riducendo il rischio di deformazioni o crepe durante la lavorazione.<\/p>\n<h3>Vantaggi:<\/h3>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Elevata capacit\u00e0 di carico<\/li>\n<li>Eccellente stabilit\u00e0 dimensionale<\/li>\n<li>Adatto ai sistemi di movimentazione automatizzata dei wafer<\/li>\n<li>Riduzione della frequenza di manutenzione<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Eccezionale resistenza agli agenti chimici<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I vassoi in ceramica SiC sono altamente resistenti alle sostanze chimiche corrosive e ai gas di processo reattivi comunemente utilizzati nella produzione di semiconduttori.<\/p>\n<h3>Resistente a:<\/h3>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Acidi<\/li>\n<li>Alcali<\/li>\n<li>Gas corrosivi<\/li>\n<li>Vapori chimici<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Ci\u00f2 garantisce un'affidabilit\u00e0 a lungo termine in ambienti di processo difficili.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Eccellente conduttivit\u00e0 termica<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">L'elevata conducibilit\u00e0 termica del carburo di silicio consente un trasferimento di calore rapido e uniforme sulla superficie del vassoio.<\/p>\n<h3>Vantaggi dell'elaborazione:<\/h3>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Migliore uniformit\u00e0 della temperatura dei wafer<\/li>\n<li>Gradienti termici ridotti<\/li>\n<li>Maggiore coerenza dei processi<\/li>\n<li>Riduzione dei tassi di difettosit\u00e0 dei wafer<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Bassa espansione termica<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il basso coefficiente di espansione termica contribuisce a mantenere la precisione strutturale durante i ripetuti cicli termici.<\/p>\n<h3>Risultato:<\/h3>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Riduzione della deformazione<\/li>\n<li>Migliore allineamento dei wafer<\/li>\n<li>Miglioramento della stabilit\u00e0 della produzione<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Purezza del grado di semiconduttore<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Realizzati con materiale in carburo di silicio ad alta purezza 99,9%, i vassoi aiutano a ridurre al minimo la contaminazione da particelle e supportano gli standard di produzione dei semiconduttori in camera bianca.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Specifiche tecniche<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<th>Propriet\u00e0<\/th>\n<th>Valore<\/th>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Materiale<\/td>\n<td>Carburo di silicio (SiC)<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>La purezza<\/td>\n<td>99.9%<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Colore<\/td>\n<td>Nero<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Densit\u00e0<\/td>\n<td>3,14 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza alla flessione<\/td>\n<td>410 MPa<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Modulo di Young<\/td>\n<td>430 GPa<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Rapporto di Poisson<\/td>\n<td>0.17<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Durezza alla frattura<\/td>\n<td>2-3 MPa-m1\/2<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Coefficiente di espansione termica<\/td>\n<td>4.1 \u00d7 10-\u2076\/K<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Conduttivit\u00e0 termica<\/td>\n<td>170 W\/m-K<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Confronto tra le tecnologie di produzione SiC<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Metodo di produzione<\/td>\n<td>Caratteristiche<\/td>\n<td>Applicazioni tipiche<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>SiC sinterizzato senza pressione<\/td>\n<td>Elevata purezza e stabilit\u00e0 termica<\/td>\n<td>Vassoi per wafer di semiconduttori<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>SiC stampato a caldo<\/td>\n<td>Maggiore resistenza meccanica<\/td>\n<td>Parti strutturali in ceramica<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>CVD SiC<\/td>\n<td>Superficie ad altissima purezza<\/td>\n<td>Apparecchiature avanzate per semiconduttori<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Si-SiC<\/td>\n<td>Soluzione economicamente vantaggiosa<\/td>\n<td>Componenti per forni industriali<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Applicazioni dei vassoi in ceramica SiC<\/h1>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2338 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-2-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-2-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-2-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-2-768x768.png 768w, 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semiconduttore<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Compatibile con:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Wafer di silicio<\/li>\n<li>Cialde di zaffiro<\/li>\n<li>Wafer SiC<\/li>\n<li>Wafer GaN<\/li>\n<li>Substrati di semiconduttori composti<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Sinterizzazione ad alta temperatura<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Ideale per applicazioni avanzate di sinterizzazione di ceramica e polveri che richiedono:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Stabilit\u00e0 termica<\/li>\n<li>Resistenza all'ossidazione<\/li>\n<li>Lunga vita operativa<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Apparecchiature per il trattamento chimico<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Adatto ad ambienti chimici aggressivi grazie all'eccellente resistenza alla corrosione.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Le applicazioni includono:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Reattori chimici<\/li>\n<li>Lavorazione a umido dei semiconduttori<\/li>\n<li>Ambienti con gas corrosivi<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Produzione ottica e di precisione<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Fornisce un supporto stabile per:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Substrati ottici<\/li>\n<li>Componenti ottici in zaffiro<\/li>\n<li>Parti in ceramica di precisione<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Sistemi termici aerospaziali e industriali<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Utilizzato nei settori che richiedono:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Materiali leggeri ad alta resistenza<\/li>\n<li>Gestione termica<\/li>\n<li>Componenti resistenti alla corrosione<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Servizi di personalizzazione<\/h1>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Forniamo soluzioni personalizzate di vassoi in ceramica SiC in base alle esigenze dei clienti.<\/p>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2337 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/SiC-Ceramic-Tray-for-Wafer-Processing-Custom-Semiconductor-Applications-3-600x600.png 600w, 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offrono:<\/p>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Prestazioni<\/td>\n<td>Vassoio in ceramica SiC<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Conduttivit\u00e0 termica<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza agli shock termici<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza meccanica<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza alla corrosione<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Stabilit\u00e0 dimensionale<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Vita utile<\/td>\n<td>Lungo<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>FAQ<\/h1>\n<h2>Il vassoio in ceramica SiC pu\u00f2 essere personalizzato?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">S\u00ec. Supportiamo dimensioni, strutture, scanalature e progetti di lavorazione personalizzati in base alle specifiche dei wafer e ai requisiti delle apparecchiature del cliente.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Quali sono le dimensioni dei wafer supportate?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I vassoi possono essere progettati per:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Cialde da 2 pollici<\/li>\n<li>Cialde da 4 pollici<\/li>\n<li>Cialde da 6 pollici<\/li>\n<li>Cialde da 8 pollici<\/li>\n<li>Formati di wafer personalizzati pi\u00f9 grandi<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h2>Il vassoio SiC \u00e8 adatto per applicazioni in forni per semiconduttori?<\/h2>\n<p>S\u00ec. I vassoi in ceramica SiC sono progettati specificamente per gli ambienti di lavorazione dei semiconduttori ad alta temperatura e offrono un'eccellente stabilit\u00e0 termica e durata.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Il vassoio in ceramica SiC \u00e8 un supporto in carburo di silicio ad alte prestazioni progettato per la lavorazione avanzata dei wafer e per gli ambienti di produzione dei semiconduttori. Progettati con materiale ceramico in carburo di silicio (SiC) di elevata purezza, questi vassoi offrono un'eccezionale stabilit\u00e0 termica, un'elevata resistenza meccanica e un'eccellente resistenza chimica per le applicazioni ad alta temperatura pi\u00f9 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