{"id":2331,"date":"2026-05-29T03:20:28","date_gmt":"2026-05-29T03:20:28","guid":{"rendered":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/?post_type=product&#038;p=2331"},"modified":"2026-05-29T03:21:23","modified_gmt":"2026-05-29T03:21:23","slug":"silicon-carbide-horizontal-process-tube-for-lpcvd-cvd-semiconductor-processes","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/product\/silicon-carbide-horizontal-process-tube-for-lpcvd-cvd-semiconductor-processes\/","title":{"rendered":"Tubo di processo orizzontale in carburo di silicio per processi a semiconduttore LPCVD\/CVD"},"content":{"rendered":"<p class=\"isSelectedEnd\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2332 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-2.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Il tubo di processo orizzontale per carburo di silicio (SiC) \u00e8 progettato per applicazioni LPCVD, CVD, diffusione, ossidazione e ricottura ad alta temperatura nella produzione di semiconduttori, fotovoltaico e materiali avanzati.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Essendo il componente principale della camera di reazione nei sistemi di trattamento termico orizzontale, il tubo di processo influisce direttamente sull'uniformit\u00e0 della temperatura, sul controllo della contaminazione, sulla stabilit\u00e0 del processo e sulla durata complessiva dell'apparecchiatura.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I nostri tubi di processo orizzontali SiC sono realizzati con un'avanzata tecnologia di stampa 3D monolitica combinata con un rivestimento in carburo di silicio CVD di altissima purezza. La struttura monopezzo senza saldature elimina i giunti di saldatura e i punti deboli legati all'assemblaggio, migliorando notevolmente l'affidabilit\u00e0 meccanica e la resistenza alle perdite in caso di funzionamento continuo ad alta temperatura.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Rispetto ai tradizionali tubi di processo al quarzo, il carburo di silicio offre una conducibilit\u00e0 termica significativamente pi\u00f9 elevata, una migliore resistenza agli shock termici, una resistenza alla corrosione superiore e una maggiore durata operativa, soprattutto in ambienti di processo aggressivi, ossidanti e contenenti cloro.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il prodotto \u00e8 ottimizzato per gli ambienti di lavorazione puliti dei semiconduttori che richiedono una bassa generazione di particelle, una bassa contaminazione metallica e prestazioni termiche stabili fino a 1250\u00b0C.<\/p>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Caratteristiche principali<\/h1>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2333 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-1.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Struttura monolitica monopezzo in SiC<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il corpo integrato in carburo di silicio stampato in 3D elimina le cuciture, i punti di brasatura e i potenziali percorsi di perdita presenti nelle strutture assemblate tradizionali.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">I vantaggi includono:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Maggiore stabilit\u00e0 strutturale<\/li>\n<li>Miglioramento dell'integrit\u00e0 del vuoto<\/li>\n<li>Migliore coerenza dimensionale<\/li>\n<li>Riduzione della concentrazione di stress termico<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Rivestimento SiC CVD di altissima purezza<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il rivestimento denso in carburo di silicio CVD fornisce:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Impurit\u00e0 superficiali inferiori a 5 ppm<\/li>\n<li>Eccellente inerzia chimica<\/li>\n<li>Riduzione della contaminazione da particelle<\/li>\n<li>Resistenza superiore all'ossidazione e ai gas contenenti cloro<\/li>\n<\/ul>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Questo rende il tubo di processo adatto ad applicazioni avanzate di trattamento termico dei semiconduttori.<\/p>\n<h2>Eccellente conduttivit\u00e0 termica<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il carburo di silicio offre una conducibilit\u00e0 termica molto pi\u00f9 elevata rispetto al quarzo o all'allumina, contribuendo al raggiungimento degli obiettivi:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Risposta termica pi\u00f9 rapida<\/li>\n<li>Migliore uniformit\u00e0 della temperatura assiale e radiale<\/li>\n<li>Condizioni stabili di lavorazione dei wafer<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Eccezionale resistenza agli shock termici<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il tubo pu\u00f2 resistere a ripetuti e rapidi cicli di riscaldamento e raffreddamento senza subire incrinature, deformazioni o spallature del rivestimento.<\/p>\n<h2>Lunga durata di vita<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Rispetto ai tubi di processo al quarzo, i tubi SiC offrono:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Intervalli di sostituzione pi\u00f9 lunghi<\/li>\n<li>Ridotta frequenza di manutenzione<\/li>\n<li>Riduzione dei tempi di inattivit\u00e0 della camera<\/li>\n<li>Miglioramento del costo totale di propriet\u00e0 (TCO)<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Applicazioni tipiche<\/h1>\n<h2><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2334 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Silicon-Carbide-Horizontal-Process-Tube-for-LPCVDCVD-Semiconductor-Processes.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>Produzione di semiconduttori<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Adatto per:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Sistemi LPCVD<\/li>\n<li>Apparecchiature di deposizione CVD<\/li>\n<li>Forni di ossidazione<\/li>\n<li>Forni a diffusione<\/li>\n<li>Sistemi di ricottura<\/li>\n<li>Processi di trattamento termico dei wafer<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Industria fotovoltaica<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Utilizzato in:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Trattamento di diffusione delle celle solari<\/li>\n<li>Passivazione superficiale<\/li>\n<li>Deposizione a film sottile<\/li>\n<li>Trattamento dei wafer ad alta temperatura<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Trattamento avanzato dei materiali<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Applicabile a:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Processi di carbonizzazione<\/li>\n<li>Trattamento di nitrurazione<\/li>\n<li>Formazione di film sottili funzionali<\/li>\n<li>Attivazione e modifica della superficie<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Compatibilit\u00e0 dei processi<\/h1>\n<h2>Atmosfere di processo compatibili<\/h2>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Ossigeno (O\u2082)<\/li>\n<li>Azoto (N\u2082)<\/li>\n<li>Gas inerti di elevata purezza<\/li>\n<li>Gas contenenti cloro controllati<\/li>\n<li>Atmosfere ossidanti<\/li>\n<\/ul>\n<h2>Finestra di processo tipica<\/h2>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<th>Parametro<\/th>\n<th>Specifiche<\/th>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Temperatura massima di funzionamento continuo<\/td>\n<td>1250\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Intervallo di pressione<\/td>\n<td>LPCVD da vuoto a quasi atmosferico<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza agli shock termici<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Tenuta delle perdite<\/td>\n<td>\u2264 1\u00d710-\u2079 Pa-m\u00b3\/s<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Ruvidit\u00e0 della superficie<\/td>\n<td>Ra \u2264 0,8-1,6 \u00b5m<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Purezza del rivestimento<\/td>\n<td>\uff1c 5 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Impurit\u00e0 del substrato<\/td>\n<td>\uff1c 300 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Specifiche tecniche<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Articolo<\/td>\n<td>Specifiche<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Nome del prodotto<\/td>\n<td>Tubo di processo orizzontale in carburo di silicio<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Materiale<\/td>\n<td>Carburo di silicio di elevata purezza<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Rivestimento<\/td>\n<td>Rivestimento SiC CVD<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Processo di produzione<\/td>\n<td>Stampa 3D monolitica<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Temperatura massima di esercizio<\/td>\n<td>\u2264 1250\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Conduttivit\u00e0 termica<\/td>\n<td>Alto<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza agli shock termici<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza alla corrosione<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Ruvidit\u00e0 della superficie<\/td>\n<td>Ra \u2264 0,8-1,6 \u00b5m<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Impurit\u00e0 del rivestimento<\/td>\n<td>\uff1c 5 ppm<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Tenuta delle perdite<\/td>\n<td>\u2264 1\u00d710-\u2079 Pa-m\u00b3\/s<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Applicazioni tipiche<\/td>\n<td>LPCVD \/ CVD \/ Diffusione \/ Ossidazione<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Vantaggi rispetto ai tubi di processo tradizionali<\/h1>\n<table>\n<tbody>\n<tr>\n<td>Propriet\u00e0<\/td>\n<td>Tubo di processo SiC<\/td>\n<td>Tubo di quarzo<\/td>\n<td>Tubo di allumina<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Conduttivit\u00e0 termica<\/td>\n<td>Alto<\/td>\n<td>Basso<\/td>\n<td>Basso<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza agli shock termici<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<td>Debole<\/td>\n<td>Moderato<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Resistenza alla corrosione<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<td>Moderato<\/td>\n<td>Buono<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Controllo delle particelle<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<td>Moderato<\/td>\n<td>Moderato<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Vita utile<\/td>\n<td>Lungo<\/td>\n<td>Breve<\/td>\n<td>Medio<\/td>\n<\/tr>\n<tr>\n<td>Stabilit\u00e0 alle alte temperature<\/td>\n<td>Eccellente<\/td>\n<td>Moderato<\/td>\n<td>Buono<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>Opzioni di personalizzazione<\/h1>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Sono disponibili specifiche personalizzate in base ai requisiti delle apparecchiature del cliente, tra cui:<\/p>\n<ul data-spread=\"false\">\n<li>Diametro e lunghezza del tubo<\/li>\n<li>Ottimizzazione dello spessore della parete<\/li>\n<li>Strutture di flange e interfacce<\/li>\n<li>Porte del gas funzionali<\/li>\n<li>Configurazioni di rivestimento interno\/esterno<\/li>\n<li>Gradi di lucidatura della superficie<\/li>\n<li>Standard di pulizia<\/li>\n<\/ul>\n<div contenteditable=\"false\">\n<hr \/>\n<\/div>\n<h1>FAQ<\/h1>\n<h2>Q1: Perch\u00e9 scegliere il carburo di silicio invece dei tubi di processo al quarzo?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il carburo di silicio offre una maggiore conducibilit\u00e0 termica, una minore contaminazione, una migliore resistenza agli shock termici e una durata significativamente maggiore rispetto al quarzo, soprattutto nei processi di semiconduttori ad alta temperatura.<\/p>\n<h2>D2: Quali processi sono compatibili con questo tubo?<\/h2>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Il tubo \u00e8 adatto per LPCVD, CVD, diffusione, ossidazione, ricottura, passivazione e altre applicazioni di trattamento termico ad alta temperatura.<\/p>\n<h2>D3: Il tubo pu\u00f2 funzionare in atmosfere contenenti cloro?<\/h2>\n<p>S\u00ec. Il rivestimento SiC CVD offre un'eccellente resistenza agli ambienti di processo controllati con cloro.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p class=\"isSelectedEnd\">Il tubo di processo orizzontale per carburo di silicio (SiC) \u00e8 progettato per applicazioni LPCVD, CVD, diffusione, ossidazione e ricottura ad alta temperatura nella produzione di semiconduttori, fotovoltaico e materiali avanzati.<\/p>\n<p class=\"isSelectedEnd\">Essendo il componente principale della camera di reazione nei sistemi di trattamento termico orizzontale, il tubo di processo influisce direttamente sull'uniformit\u00e0 della temperatura, sul controllo della contaminazione, sulla stabilit\u00e0 del processo e sulla durata complessiva dell'apparecchiatura.<\/p>","protected":false},"featured_media":2334,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[23],"product_tag":[625,626,602,624,609,603,629,627,623,628,622],"class_list":["post-2331","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_cat-silicon-carbide-sic","product_tag-cvd-process-tube","product_tag-cvd-sic-coated-tube","product_tag-high-purity-silicon-carbide-tube","product_tag-lpcvd-process-tube","product_tag-semiconductor-process-tube","product_tag-semiconductor-thermal-processing-tube","product_tag-sic-cvd-tube","product_tag-sic-furnace-tube","product_tag-sic-horizontal-process-tube","product_tag-sic-lpcvd-tube","product_tag-silicon-carbide-horizontal-process-tube","desktop-align-left","tablet-align-left","mobile-align-left","first","instock","shipping-taxable","product-type-simple"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2331","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2331"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2334"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2331"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2331"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2331"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2331"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}