{"id":2237,"date":"2026-05-18T06:28:52","date_gmt":"2026-05-18T06:28:52","guid":{"rendered":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/?post_type=product&#038;p=2237"},"modified":"2026-05-18T06:28:52","modified_gmt":"2026-05-18T06:28:52","slug":"custom-silicon-carbide-stepped-ceramic-plate-for-semiconductor-high-temperature-equipment","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/product\/custom-silicon-carbide-stepped-ceramic-plate-for-semiconductor-high-temperature-equipment\/","title":{"rendered":"Il carburo di silicio personalizzato ha fatto un passo nel piatto ceramico per l'attrezzatura a semiconduttore ad alta temperatura"},"content":{"rendered":"<p data-start=\"444\" data-end=\"817\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2238 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-600x600.png 600w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4-100x100.png 100w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-4.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/> \u00a0La piastra ceramica a gradini in carburo di silicio (SiC) \u00e8 un componente ceramico strutturale ad alte prestazioni progettato per le apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori e i sistemi industriali ad alta temperatura. Caratterizzato da un profilo a gradini lavorato con precisione, il componente consente un posizionamento accurato, un assemblaggio sicuro e un'eccellente stabilit\u00e0 dimensionale in ambienti di processo difficili.<\/p>\n<p data-start=\"819\" data-end=\"1136\">Realizzato in ceramica di carburo di silicio di elevata purezza, questo componente offre un'eccezionale resistenza all'esposizione al plasma, agli shock termici, alla corrosione chimica e alle temperature estreme. La sua elevata rigidit\u00e0 e conducibilit\u00e0 termica lo rendono ideale per applicazioni strutturali e protettive all'interno di apparecchiature a semiconduttore.<\/p>\n<p data-start=\"1138\" data-end=\"1319\">Progettate per garantire un'affidabilit\u00e0 a lungo termine, le piastre ceramiche a gradini SiC sono ampiamente utilizzate nelle camere di processo, nei sistemi a vuoto, nelle apparecchiature termiche e nelle applicazioni dei semiconduttori legate al plasma.<\/p>\n<hr data-start=\"1321\" data-end=\"1324\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1ma7m6t\" data-start=\"1326\" data-end=\"1341\">Caratteristiche principali<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"f95hxz\" data-start=\"1343\" data-end=\"1383\">Materiale in carburo di silicio di elevata purezza<\/h3>\n<p data-start=\"1384\" data-end=\"1469\">Realizzato in ceramica SiC \u226599% con eccellenti prestazioni termiche e meccaniche.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"svmjfq\" data-start=\"1471\" data-end=\"1502\">Struttura a gradini di precisione<\/h3>\n<p data-start=\"1503\" data-end=\"1586\">La geometria dei bordi a gradini garantisce un posizionamento preciso e un assemblaggio meccanico stabile.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"k945fu\" data-start=\"1588\" data-end=\"1621\">Eccezionale stabilit\u00e0 termica<\/h3>\n<p data-start=\"1622\" data-end=\"1736\">In grado di funzionare ininterrottamente a temperature superiori a 1600\u00b0C in ambienti inerti con deformazioni minime.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"12w321v\" data-start=\"1738\" data-end=\"1769\">Eccellente resistenza al plasma<\/h3>\n<p data-start=\"1770\" data-end=\"1862\">Resistente all'erosione del plasma e ai gas di processo corrosivi utilizzati nella produzione di semiconduttori.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"e3yx30\" data-start=\"1864\" data-end=\"1893\">Alta conducibilit\u00e0 termica<\/h3>\n<p data-start=\"1894\" data-end=\"1995\">La conducibilit\u00e0 termica di 120-200 W\/m-K consente un efficiente trasferimento di calore e l'uniformit\u00e0 della temperatura.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1wy3za\" data-start=\"1997\" data-end=\"2025\">Alta resistenza meccanica<\/h3>\n<p data-start=\"2026\" data-end=\"2116\">Eccellente rigidit\u00e0 e resistenza all'usura per un funzionamento a lungo termine in condizioni difficili.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"cq0yxl\" data-start=\"2118\" data-end=\"2139\">Compatibile con il vuoto<\/h3>\n<p data-start=\"2140\" data-end=\"2233\">Le caratteristiche di basso degassamento lo rendono adatto agli ambienti di lavorazione puliti e sotto vuoto.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1me2xty\" data-start=\"2235\" data-end=\"2257\">Completamente personalizzabile<\/h3>\n<p data-start=\"2258\" data-end=\"2356\">Le dimensioni, la struttura a gradini, le tolleranze e la geometria dei bordi possono essere personalizzate in base ai disegni.<\/p>\n<hr data-start=\"2358\" data-end=\"2361\" \/>\n<h2 data-section-id=\"164os46\" data-start=\"2363\" data-end=\"2386\"><img decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-2241 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-1-300x300.png\" alt=\"\" width=\"300\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-1-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-1-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-1-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Custom-Silicon-Carbide-Stepped-Ceramic-Plate-for-Semiconductor-High-Temperature-Equipment-1-12x12.png 12w, 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data-start=\"2484\" data-end=\"2517\">Coperchi delle camere e tappi delle fodere<\/li>\n<li data-section-id=\"156kf5a\" data-start=\"2518\" data-end=\"2557\">Strutture di supporto per alte temperature<\/li>\n<li data-section-id=\"1uw29t8\" data-start=\"2558\" data-end=\"2587\">Sistemi di lavorazione sottovuoto<\/li>\n<li data-section-id=\"1vwknu5\" data-start=\"2588\" data-end=\"2624\">Componenti ceramici rivolti al plasma<\/li>\n<li data-section-id=\"1uyzplw\" data-start=\"2625\" data-end=\"2667\">Apparecchiature di produzione optoelettronica<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2669\" data-end=\"2672\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1cgu054\" data-start=\"2674\" data-end=\"2701\">Specifiche tecniche<\/h2>\n<div class=\"TyagGW_tableContainer\">\n<div class=\"group TyagGW_tableWrapper flex flex-col-reverse w-fit\" tabindex=\"-1\">\n<table class=\"w-fit min-w-(--thread-content-width)\" data-start=\"2703\" data-end=\"3198\">\n<thead data-start=\"2703\" data-end=\"2727\">\n<tr data-start=\"2703\" data-end=\"2727\">\n<th class=\"last:pe-10\" data-start=\"2703\" data-end=\"2710\" data-col-size=\"sm\">Articolo<\/th>\n<th class=\"last:pe-10\" data-start=\"2710\" data-end=\"2727\" data-col-size=\"sm\">Specifiche<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n<tbody data-start=\"2739\" data-end=\"3198\">\n<tr data-start=\"2739\" data-end=\"2775\">\n<td data-start=\"2739\" data-end=\"2750\" data-col-size=\"sm\">Materiale<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2750\" data-end=\"2775\">Carburo di silicio (SiC)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2776\" data-end=\"2793\">\n<td data-start=\"2776\" data-end=\"2785\" data-col-size=\"sm\">La purezza<\/td>\n<td data-start=\"2785\" data-end=\"2793\" data-col-size=\"sm\">\u226599%<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2794\" data-end=\"2823\">\n<td data-start=\"2794\" data-end=\"2804\" data-col-size=\"sm\">Densit\u00e0<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2804\" data-end=\"2823\">3,10-3,20 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2824\" data-end=\"2847\">\n<td data-start=\"2824\" data-end=\"2835\" data-col-size=\"sm\">Durezza<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2835\" data-end=\"2847\">\u22652500 HV<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2848\" data-end=\"2880\">\n<td data-start=\"2848\" data-end=\"2868\" data-col-size=\"sm\">Resistenza alla flessione<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2868\" data-end=\"2880\">\u2265350 MPa<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2881\" data-end=\"2911\">\n<td data-start=\"2881\" data-end=\"2899\" data-col-size=\"sm\">Modulo elastico<\/td>\n<td data-start=\"2899\" data-end=\"2911\" data-col-size=\"sm\">~410 GPa<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2912\" data-end=\"2952\">\n<td data-start=\"2912\" data-end=\"2935\" data-col-size=\"sm\">Conduttivit\u00e0 termica<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2935\" data-end=\"2952\">120-200 W\/m-K<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"2953\" data-end=\"3002\">\n<td data-start=\"2953\" data-end=\"2985\" data-col-size=\"sm\">Coefficiente di espansione termica<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"2985\" data-end=\"3002\">~4.0 \u00d710-\u2076 \/K<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3003\" data-end=\"3051\">\n<td data-start=\"3003\" data-end=\"3040\" data-col-size=\"sm\">Temperatura massima (atmosfera inerte)<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"3040\" data-end=\"3051\">&gt;1600\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3052\" data-end=\"3087\">\n<td data-start=\"3052\" data-end=\"3076\" data-col-size=\"sm\">Temperatura massima (aria)<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"3076\" data-end=\"3087\">~1400\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3088\" data-end=\"3136\">\n<td data-start=\"3088\" data-end=\"3105\" data-col-size=\"sm\">Finitura superficiale<\/td>\n<td data-start=\"3105\" data-end=\"3136\" data-col-size=\"sm\">Smerigliatura \/ Lucidatura opzionale<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3137\" data-end=\"3198\">\n<td data-start=\"3137\" data-end=\"3165\" data-col-size=\"sm\">Compatibilit\u00e0 ambientale<\/td>\n<td data-col-size=\"sm\" data-start=\"3165\" data-end=\"3198\">Vuoto, plasma, gas corrosivi<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<hr data-start=\"3200\" data-end=\"3203\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1wm5aj7\" data-start=\"3205\" data-end=\"3234\">Capacit\u00e0 di produzione<\/h2>\n<p data-start=\"3236\" data-end=\"3298\">Supportiamo tecnologie avanzate di lavorazione della ceramica, tra cui:<\/p>\n<ul data-start=\"3300\" data-end=\"3503\">\n<li data-section-id=\"1yjo1sg\" data-start=\"3300\" data-end=\"3327\">Lavorazione CNC di precisione<\/li>\n<li data-section-id=\"vpalwr\" data-start=\"3328\" data-end=\"3348\">Rettifica di superficie<\/li>\n<li data-section-id=\"1lp7417\" data-start=\"3349\" data-end=\"3379\">Lappatura e lucidatura fine<\/li>\n<li data-section-id=\"14ieex5\" data-start=\"3380\" data-end=\"3405\">Lavorazione a gradini personalizzata<\/li>\n<li data-section-id=\"1bxh0om\" data-start=\"3406\" data-end=\"3433\">Lavorazione dello smusso dei bordi<\/li>\n<li data-section-id=\"7i2q07\" data-start=\"3434\" data-end=\"3467\">Produzione con tolleranze strette<\/li>\n<li data-section-id=\"l5z84m\" data-start=\"3468\" data-end=\"3503\">Prototipi e produzione in serie<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3505\" data-end=\"3508\" \/>\n<h2 data-section-id=\"rnyyeg\" data-start=\"3510\" data-end=\"3534\">Opzioni di personalizzazione<\/h2>\n<p data-start=\"3536\" data-end=\"3569\">La personalizzazione disponibile comprende:<\/p>\n<ul data-start=\"3571\" data-end=\"3777\">\n<li data-section-id=\"1tl0gsr\" data-start=\"3571\" data-end=\"3603\">Diametro esterno e spessore<\/li>\n<li data-section-id=\"78t2qw\" data-start=\"3604\" data-end=\"3629\">Altezza e larghezza del gradino<\/li>\n<li data-section-id=\"1t78q28\" data-start=\"3630\" data-end=\"3655\">Requisiti di planarit\u00e0<\/li>\n<li data-section-id=\"1mw7yxi\" data-start=\"3656\" data-end=\"3685\">Controllo della rugosit\u00e0 della superficie<\/li>\n<li data-section-id=\"1ecbghc\" data-start=\"3686\" data-end=\"3717\">Struttura dei bordi e smussi<\/li>\n<li data-section-id=\"1d7tha5\" data-start=\"3718\" data-end=\"3744\">Opzioni di lucidatura fine<\/li>\n<li data-section-id=\"yd3rm8\" data-start=\"3745\" data-end=\"3777\">Produzione OEM su disegno<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3779\" data-end=\"3782\" \/>\n<h2 data-section-id=\"9t4t8j\" data-start=\"3784\" data-end=\"3823\">Vantaggi dei componenti in ceramica SiC<\/h2>\n<p data-start=\"3825\" data-end=\"3882\">Rispetto ai materiali convenzionali, la ceramica SiC offre:<\/p>\n<ul data-start=\"3884\" data-end=\"4091\">\n<li data-section-id=\"1vok2kl\" data-start=\"3884\" data-end=\"3915\">Maggiore conducibilit\u00e0 termica<\/li>\n<li data-section-id=\"14fpsq4\" data-start=\"3916\" data-end=\"3951\">Migliore resistenza agli shock termici<\/li>\n<li data-section-id=\"vpkota\" data-start=\"3952\" data-end=\"3982\">Durata superiore del plasma<\/li>\n<li data-section-id=\"1y67fsp\" data-start=\"3983\" data-end=\"4010\">Minore espansione termica<\/li>\n<li data-section-id=\"10nv22i\" data-start=\"4011\" data-end=\"4040\">Forte stabilit\u00e0 chimica<\/li>\n<li data-section-id=\"sevfm0\" data-start=\"4041\" data-end=\"4091\">Maggiore durata delle apparecchiature per semiconduttori<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"4093\" data-end=\"4096\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1hryhf7\" data-start=\"4098\" data-end=\"4104\">FAQ<\/h2>\n<p data-start=\"4106\" data-end=\"4266\">D1: Qual \u00e8 lo scopo principale della struttura a gradini?<br data-start=\"4167\" data-end=\"4170\" \/>La geometria a gradini consente un posizionamento preciso e un assemblaggio affidabile all'interno delle apparecchiature di processo.<\/p>\n<p data-start=\"4268\" data-end=\"4420\">D2: Questo componente \u00e8 in grado di resistere agli ambienti al plasma?<br data-start=\"4325\" data-end=\"4328\" \/>S\u00ec. Il carburo di silicio ha un'eccellente resistenza all'erosione del plasma e ai gas di processo corrosivi.<\/p>\n<p data-start=\"4422\" data-end=\"4557\">D3: Il componente \u00e8 compatibile con il vuoto?<br data-start=\"4465\" data-end=\"4468\" \/>S\u00ec. Il materiale presenta un basso degassamento e prestazioni stabili in condizioni di vuoto.<\/p>\n<p data-start=\"4559\" data-end=\"4709\">D4: Le dimensioni possono essere personalizzate?<br data-start=\"4596\" data-end=\"4599\" \/>S\u00ec. Le dimensioni, il profilo dei gradini, le tolleranze e le caratteristiche dei bordi possono essere prodotti in base alle esigenze del cliente.<\/p>\n<p data-start=\"4711\" data-end=\"4845\">D5: Sono disponibili versioni lucide?<br data-start=\"4751\" data-end=\"4754\" \/>A seconda dei requisiti dell'applicazione, \u00e8 possibile fornire una rettifica fine e una lucidatura opzionale.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>La piastra ceramica a gradini in carburo di silicio (SiC) \u00e8 un componente ceramico strutturale ad alte prestazioni progettato per le apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori e i sistemi industriali ad alta temperatura. Caratterizzato da un profilo a gradini lavorato con precisione, il componente consente un posizionamento accurato, un assemblaggio sicuro e un'eccellente stabilit\u00e0 dimensionale in ambienti di processo difficili.<\/p>","protected":false},"featured_media":2239,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center 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