![\"Sede](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-1-300x300.png\")
La sede di distribuzione del gas in ceramica di allumina 99% \u00e8 un componente ceramico di precisione ad alte prestazioni progettato per il controllo ultra-stabile del flusso di gas nei sistemi industriali avanzati. \u00c8 prodotto con ossido di alluminio 99% di elevata purezza (Al\u2082O\u2083), che offre un'eccezionale resistenza meccanica, stabilit\u00e0 chimica e prestazioni di isolamento elettrico.<\/p>\n
Questo componente \u00e8 ampiamente utilizzato nelle apparecchiature di produzione di semiconduttori, nei sistemi di rivestimento sotto vuoto, nelle camere di incisione al plasma, nei sistemi CVD e PECVD e nei moduli di distribuzione di gas ad alta purezza.<\/p>\n
La sua funzione principale \u00e8 quella di garantire una diffusione uniforme e stabile del gas nelle camere di processo, riducendo le variazioni di processo, migliorando la costanza di rendimento e minimizzando i rischi di contaminazione. Rispetto al metallo, al quarzo o alle ceramiche di grado inferiore, l'allumina 99% offre una resistenza all'usura, una stabilit\u00e0 dimensionale e un'affidabilit\u00e0 a lungo termine nettamente superiori.<\/p>\n
Questo prodotto \u00e8 realizzato in ceramica di allumina 99% ad alta densit\u00e0, considerata una delle ceramiche ingegneristiche avanzate pi\u00f9 stabili e ampiamente utilizzate negli ambienti industriali di precisione.<\/p>\n
![\"Sede](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-2-300x300.png\")
Caratteristiche principali del materiale:<\/h3>\nRispetto all'allumina 95%, l'allumina 99% offre una maggiore durezza, una migliore resistenza all'usura e una migliore stabilit\u00e0 strutturale, rendendola pi\u00f9 adatta ai semiconduttori di fascia alta e ai sistemi di rivestimento di precisione.<\/p>\n
La sede di distribuzione del gas in ceramica \u00e8 progettata con una struttura porosa controllata con precisione o un sistema di microcanali. Questa struttura consente la diffusione controllata dei gas di processo all'interno di camere a vuoto o di reazione.<\/p>\n
La struttura dei pori pu\u00f2 essere progettata per adattarsi a specifiche portate, tipi di gas e configurazioni della camera.<\/p>\n
![\"Sede](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-3-300x300.png\")
Principali vantaggi prestazionali dell'allumina 99%<\/h2>\n| Propriet\u00e0<\/th>\n | 99% Allumina (Al\u2082O\u2083 \u2265 99%)<\/th>\n | 95% Allumina<\/th>\n | Zirconia<\/th>\n | Steatite<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Densit\u00e0 (g\/cm\u00b3)<\/td>\n | 3.85<\/td>\n | 3.65<\/td>\n | 5.9<\/td>\n | 2.8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Assorbimento dell'acqua (%)<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Temperatura di sinterizzazione (\u2103)<\/td>\n | 1690<\/td>\n | 1670<\/td>\n | 1650<\/td>\n | 1350<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Durezza (HV)<\/td>\n | 1700<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 800<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Resistenza alla flessione (MPa)<\/td>\n | >350<\/td>\n | >290<\/td>\n | >1100<\/td>\n | 90<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Resistenza alla compressione (Kgf\/cm\u00b2)<\/td>\n | 30000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 4000<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Temperatura massima di esercizio (\u2103)<\/td>\n | 1500<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1100<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Espansione termica (\u00d710-\u2076\/\u2103)<\/td>\n | 8<\/td>\n | 7.8<\/td>\n | 10<\/td>\n | 6<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Resistenza agli shock termici (\u0394T \u2103)<\/td>\n | 200<\/td>\n | 220<\/td>\n | 350<\/td>\n | 200<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Conduttivit\u00e0 termica (W\/m-K)<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2.5<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Resistivit\u00e0 di volume (\u03a9-cm)<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | 10\u00b9\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Rigidit\u00e0 dielettrica (KV\/mm)<\/td>\n | 18<\/td>\n | 16<\/td>\n | 15<\/td>\n | 10<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Costante dielettrica (1MHz)<\/td>\n | 9.2-10.5<\/td>\n | 9.0-10<\/td>\n | 12<\/td>\n | 5.8<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n \n Parametri tecnici<\/h2>\n\n
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