\n| Stabilit\u00e0 della superficie<\/td>\n | Si degrada nel tempo<\/td>\n | Altamente stabile<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n
\nImballaggio e manipolazione<\/span><\/h1>\n\n- Disponibilit\u00e0 di confezioni per camera bianca<\/li>\n
- Cassa di legno resistente agli urti o sigillata sottovuoto<\/li>\n
- Progettato per il trasporto di semiconduttori senza contaminazione<\/li>\n
- Sono supportate dimensioni personalizzate (\u03a6380-\u03a6600 mm o progetti su misura)<\/li>\n<\/ul>\n
\nPerch\u00e9 scegliere questo prodotto<\/span><\/h1>\nQuesto vassoio porta wafer SiC \u00e8 stato progettato per la produzione di semiconduttori di nuova generazione, dove la purezza, la stabilit\u00e0 termica e il controllo della contaminazione sono fondamentali. Sostituendo i tradizionali carrier a base di grafite, migliora significativamente la resa produttiva, riduce i costi di manutenzione e garantisce prestazioni di processo stabili a lungo termine.<\/p>\n
\nFAQ<\/span><\/h1>\nD1: Qual \u00e8 il principale vantaggio del rivestimento SiC CVD rispetto ai vassoi di grafite?<\/span><\/h3>\nIl rivestimento SiC CVD fornisce uno strato protettivo denso e ultra-puro che impedisce la penetrazione di gas e la dispersione di particelle di grafite, migliorando notevolmente la durata e riducendo la contaminazione dei wafer.<\/p>\n
\nD2: Questo vassoio SiC pu\u00f2 essere utilizzato nei processi MOCVD ad alta temperatura?<\/span><\/h3>\nS\u00ec. \u00c8 stato progettato specificamente per applicazioni MOCVD e pu\u00f2 funzionare in modo affidabile a 1100-1200\u00b0C con un'eccellente stabilit\u00e0 termica e una distribuzione uniforme del calore.<\/p>\n
\nD3: Qual \u00e8 la differenza tra i vassoi in grafite rivestita e i vassoi SiC completamente CVD?<\/span><\/h3>\nI vassoi di grafite rivestiti utilizzano un nucleo di grafite con uno strato protettivo di SiC, mentre i vassoi di SiC completamente CVD sono strutture monolitiche con una purezza superiore, una migliore resistenza alla corrosione e una maggiore durata.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":" The SiC ceramic tray plate is a high-performance wafer carrier designed for advanced semiconductor processes such as MOCVD, epitaxy, and ICP etching. It is available in two structures: Graphite substrate with CVD SiC coating Monolithic high-purity CVD SiC tray (\u226599.99%) Compared with conventional graphite carriers, this product offers significantly improved thermal stability, corrosion resistance, and […]<\/p>\n","protected":false},"featured_media":2114,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}},"ast-content-background-meta":{"desktop":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"tablet":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""},"mobile":{"background-color":"var(--ast-global-color-5)","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center center","background-size":"auto","background-attachment":"scroll","background-type":"","background-media":"","overlay-type":"","overlay-color":"","overlay-opacity":"","overlay-gradient":""}}},"product_brand":[],"product_cat":[23],"product_tag":[224,220,209,217,216,218,213,214,221,211,222,226,215,210,212,223,177,219,227,225],"class_list":["post-2110","product","type-product","status-publish","has-post-thumbnail","product_cat-silicon-carbide-sic","product_tag-chemical-vapor-deposition-sic","product_tag-corrosion-resistant-wafer-tray","product_tag-cvd-sic-coated-graphite-tray","product_tag-epitaxy-wafer-carrier","product_tag-etching-tray-icp","product_tag-gan-led-production-tray","product_tag-graphite-sic-coating","product_tag-high-purity-sic-wafer-carrier","product_tag-high-temperature-semiconductor-carrier","product_tag-mocvd-susceptor","product_tag-precision-ceramic-substrate","product_tag-semiconductor-mocvd-parts","product_tag-semiconductor-processing-equipment","product_tag-semiconductor-wafer-tray","product_tag-sic-ceramic-tray-plate","product_tag-sic-coated-susceptor-plate","product_tag-sic-wafer-carrier","product_tag-thermal-cvd-sic","product_tag-ultra-high-purity-sic-materials","product_tag-wafer-handling-equipment","desktop-align-left","tablet-align-left","mobile-align-left","first","instock","shipping-taxable","product-type-simple"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2110","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2110"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media\/2114"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2110"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2110"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2110"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2110"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}} |
![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Full-CVD-SiC-Wafer-Carrier-Tray-Plate-for-Semiconductor-MOCVD-Etching-Equipment-3-300x300.png\")
La piastra vassoio in ceramica SiC \u00e8 un supporto per wafer ad alte prestazioni progettato per processi di semiconduttori avanzati come MOCVD, epitassia e incisione ICP. \u00c8 disponibile in due strutture:<\/p>\n![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Full-CVD-SiC-Wafer-Carrier-Tray-Plate-for-Semiconductor-MOCVD-Etching-Equipment-300x300.png\")
![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Full-CVD-SiC-Wafer-Carrier-Tray-Plate-for-Semiconductor-MOCVD-Etching-Equipment-1-300x300.png\")
![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Full-CVD-SiC-Wafer-Carrier-Tray-Plate-for-Semiconductor-MOCVD-Etching-Equipment-2-300x300.png\")
<\/p>\n