{"id":2095,"date":"2026-05-12T03:44:27","date_gmt":"2026-05-12T03:44:27","guid":{"rendered":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/?post_type=product&#038;p=2095"},"modified":"2026-05-12T03:44:27","modified_gmt":"2026-05-12T03:44:27","slug":"high-purity-silicon-carbide-wafer-tray-for-semiconductor-cvd-processing","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/it\/product\/high-purity-silicon-carbide-wafer-tray-for-semiconductor-cvd-processing\/","title":{"rendered":"Vassoio per wafer di carburo di silicio di elevata purezza per la lavorazione di semiconduttori e CVD"},"content":{"rendered":"<p data-start=\"199\" data-end=\"404\"><img fetchpriority=\"high\" decoding=\"async\" class=\"wp-image-2097 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-2-300x300.png\" alt=\"\" width=\"288\" height=\"288\" 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https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-2.png 1000w\" sizes=\"(max-width: 288px) 100vw, 288px\" \/>Il vassoio per wafer in carburo di silicio \u00e8 un supporto ceramico di precisione ad alte prestazioni progettato per la lavorazione dei wafer di semiconduttori, i sistemi CVD\/PECVD, i forni a vuoto e gli ambienti industriali ad alta temperatura.<\/p>\n<p data-start=\"406\" data-end=\"666\">Realizzato in SiC CVD o SSiC (carburo di silicio sinterizzato) di elevata purezza, questo vassoio offre un'eccezionale stabilit\u00e0 termica, resistenza meccanica e chimica, garantendo una gestione stabile dei wafer e prestazioni di processo costanti in condizioni estreme.<\/p>\n<p data-start=\"668\" data-end=\"818\">\u00c8 ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, nell'epitassia dei LED, nella lavorazione dei wafer di zaffiro, nella sinterizzazione di ceramiche avanzate e nei sistemi termici sotto vuoto.<\/p>\n<hr data-start=\"820\" data-end=\"823\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1ma7m6t\" data-start=\"825\" data-end=\"840\">Caratteristiche principali<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"1mskj6p\" data-start=\"842\" data-end=\"888\">Stabilit\u00e0 alle alte temperature (fino a 1600\u00b0C+)<\/h3>\n<p data-start=\"889\" data-end=\"1000\">Mantiene l'integrit\u00e0 strutturale e le prestazioni in condizioni di funzionamento continuo ad alta temperatura senza deformazioni.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"obi2s6\" data-start=\"1002\" data-end=\"1036\">Eccellente conduttivit\u00e0 termica<\/h3>\n<p data-start=\"1037\" data-end=\"1136\">Assicura un trasferimento di calore rapido e uniforme, riducendo i gradienti di temperatura e migliorando la resa del processo.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"hstd5z\" data-start=\"1138\" data-end=\"1175\">Resistenza superiore agli shock termici<\/h3>\n<p data-start=\"1176\" data-end=\"1248\">Resiste a rapidi cicli di riscaldamento e raffreddamento senza incrinarsi o deformarsi.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1wy3za\" data-start=\"1250\" data-end=\"1278\">Alta resistenza meccanica<\/h3>\n<p data-start=\"1279\" data-end=\"1377\">La struttura rinforzata garantisce un'eccellente capacit\u00e0 di carico e stabilit\u00e0 dimensionale a lungo termine.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1cdcof9\" data-start=\"1379\" data-end=\"1411\">Resistenza chimica e al plasma<\/h3>\n<p data-start=\"1412\" data-end=\"1521\">Altamente resistente agli acidi, agli alcali, ai gas corrosivi e agli ambienti di plasma utilizzati nei processi dei semiconduttori.<\/p>\n<h3 data-section-id=\"1vb1ood\" data-start=\"1523\" data-end=\"1557\">Lavorazione ad altissima precisione<\/h3>\n<p data-start=\"1558\" data-end=\"1663\">La rettifica CNC garantisce tolleranze strette, planarit\u00e0 e superfici lisce di contatto con i wafer per i sistemi automatizzati.<\/p>\n<hr data-start=\"1665\" data-end=\"1668\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1lh3gui\" data-start=\"1670\" data-end=\"1690\">Progettazione strutturale<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"1s8wich\" data-start=\"1692\" data-end=\"1726\">Design della scanalatura anulare a pi\u00f9 zone<\/h3>\n<ul data-start=\"1727\" data-end=\"1850\">\n<li data-section-id=\"gkdwm3\" data-start=\"1727\" data-end=\"1745\">Riduce il peso<\/li>\n<li data-section-id=\"18issq2\" data-start=\"1746\" data-end=\"1777\">Migliora l'uniformit\u00e0 termica<\/li>\n<li data-section-id=\"l3j2gw\" data-start=\"1778\" data-end=\"1807\">Migliora la dissipazione del calore<\/li>\n<li data-section-id=\"1tnc39l\" data-start=\"1808\" data-end=\"1850\">Riduce al minimo la concentrazione di stress termico<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"1852\" data-end=\"1942\">Questa struttura \u00e8 ottimizzata per la lavorazione dei wafer ad alta temperatura e per le applicazioni sotto vuoto.<\/p>\n<hr data-start=\"1944\" data-end=\"1947\" \/>\n<h3 data-section-id=\"10p8bw6\" data-start=\"1949\" data-end=\"1984\">Sistema di nervature con rinforzo radiale<\/h3>\n<ul data-start=\"1985\" data-end=\"2144\">\n<li data-section-id=\"93l2pt\" data-start=\"1985\" data-end=\"2018\">Aumenta la rigidit\u00e0 meccanica<\/li>\n<li data-section-id=\"xmgkcx\" data-start=\"2019\" data-end=\"2054\">Impedisce la deformazione sotto carico<\/li>\n<li data-section-id=\"16xz56l\" data-start=\"2055\" data-end=\"2088\">Migliora la stabilit\u00e0 rotazionale<\/li>\n<li data-section-id=\"1i3nv5f\" data-start=\"2089\" data-end=\"2144\">Prolunga la durata di vita in ambienti termici ciclici<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2146\" data-end=\"2149\" \/>\n<h3 data-section-id=\"erqgsk\" data-start=\"2151\" data-end=\"2181\">Superficie lavorata di precisione<\/h3>\n<ul data-start=\"2182\" data-end=\"2334\">\n<li data-section-id=\"tdalbr\" data-start=\"2182\" data-end=\"2215\">Elevata planarit\u00e0 e consistenza<\/li>\n<li data-section-id=\"1jpgedk\" data-start=\"2216\" data-end=\"2250\">Interfaccia di contatto wafer liscia<\/li>\n<li data-section-id=\"muk23v\" data-start=\"2251\" data-end=\"2297\">Compatibile con i sistemi di automazione robotica<\/li>\n<li data-section-id=\"t302yy\" data-start=\"2298\" data-end=\"2334\">Riduce il rischio di generazione di particelle<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2336\" data-end=\"2339\" \/>\n<h3 data-section-id=\"1jxpmtp\" data-start=\"2341\" data-end=\"2371\">Interfaccia di montaggio centrale<\/h3>\n<p data-start=\"2372\" data-end=\"2415\">La struttura centrale con fori di precisione garantisce:<\/p>\n<ul data-start=\"2416\" data-end=\"2541\">\n<li data-section-id=\"1prbs8w\" data-start=\"2416\" data-end=\"2441\">Montaggio stabile dell'albero<\/li>\n<li data-section-id=\"cemghk\" data-start=\"2442\" data-end=\"2483\">Allineamento preciso nei sistemi a forno<\/li>\n<li data-section-id=\"pxfn4\" data-start=\"2484\" data-end=\"2541\">Compatibilit\u00e0 con le apparecchiature di manipolazione automatica dei wafer<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2543\" data-end=\"2546\" \/>\n<h3 data-section-id=\"gqycxw\" data-start=\"2548\" data-end=\"2573\">Anello esterno rinforzato<\/h3>\n<ul data-start=\"2574\" data-end=\"2688\">\n<li data-section-id=\"17dniqy\" data-start=\"2574\" data-end=\"2605\">Migliora l'equilibrio strutturale<\/li>\n<li data-section-id=\"yaoils\" data-start=\"2606\" data-end=\"2639\">Migliora la resistenza alle vibrazioni<\/li>\n<li data-section-id=\"16bzx41\" data-start=\"2640\" data-end=\"2688\">Rafforza la durata dei bordi durante il funzionamento<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2690\" data-end=\"2693\" \/>\n<h2 data-section-id=\"rb24ym\" data-start=\"2695\" data-end=\"2714\">Opzioni di materiale<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"87v3o9\" data-start=\"2716\" data-end=\"2749\">Carburo di silicio CVD (SiC CVD)<\/h3>\n<ul data-start=\"2750\" data-end=\"2880\">\n<li data-section-id=\"1qjlbs6\" data-start=\"2750\" data-end=\"2771\">Purezza ultraelevata<\/li>\n<li data-section-id=\"ujmjxb\" data-start=\"2772\" data-end=\"2803\">Contaminazione estremamente bassa<\/li>\n<li data-section-id=\"1529x9w\" data-start=\"2804\" data-end=\"2833\">Eccellente qualit\u00e0 della superficie<\/li>\n<li data-section-id=\"3atv6m\" data-start=\"2834\" data-end=\"2880\">Ideale per i processi di semiconduttori avanzati<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"2882\" data-end=\"2885\" \/>\n<h3 data-section-id=\"gwj4n0\" data-start=\"2887\" data-end=\"2922\">Carburo di silicio sinterizzato (SSiC)<\/h3>\n<ul data-start=\"2923\" data-end=\"3068\">\n<li data-section-id=\"16na2wg\" data-start=\"2923\" data-end=\"2952\">Alta resistenza e densit\u00e0<\/li>\n<li data-section-id=\"v14n1q\" data-start=\"2953\" data-end=\"2982\">Eccellente resistenza all'usura<\/li>\n<li data-section-id=\"1s1u32c\" data-start=\"2983\" data-end=\"3015\">Stabile in ambienti difficili<\/li>\n<li data-section-id=\"1586k58\" data-start=\"3016\" data-end=\"3068\">Adatto per sistemi industriali ad alta temperatura<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3070\" data-end=\"3073\" \/>\n<h3 data-section-id=\"129y1qt\" data-start=\"3075\" data-end=\"3106\">SiC legato per reazione (RBSiC)<\/h3>\n<ul data-start=\"3107\" data-end=\"3214\">\n<li data-section-id=\"rz6j8a\" data-start=\"3107\" data-end=\"3134\">Soluzione economicamente vantaggiosa<\/li>\n<li data-section-id=\"dvvzgf\" data-start=\"3135\" data-end=\"3168\">Buona resistenza agli shock termici<\/li>\n<li data-section-id=\"ag3lnk\" data-start=\"3169\" data-end=\"3214\">Adatto per applicazioni industriali di massa<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3216\" data-end=\"3219\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1cgu054\" data-start=\"3221\" data-end=\"3248\">Specifiche tecniche<\/h2>\n<div class=\"TyagGW_tableContainer\">\n<div class=\"group TyagGW_tableWrapper flex flex-col-reverse w-fit\" tabindex=\"-1\">\n<table class=\"w-fit min-w-(--thread-content-width)\" data-start=\"3250\" data-end=\"3636\">\n<thead data-start=\"3250\" data-end=\"3274\">\n<tr data-start=\"3250\" data-end=\"3274\">\n<th class=\"last:pe-10\" data-start=\"3250\" data-end=\"3257\" data-col-size=\"sm\">Articolo<\/th>\n<th class=\"last:pe-10\" data-start=\"3257\" data-end=\"3274\" data-col-size=\"sm\">Specifiche<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n<tbody data-start=\"3299\" data-end=\"3636\">\n<tr data-start=\"3299\" data-end=\"3336\">\n<td data-start=\"3299\" data-end=\"3310\" data-col-size=\"sm\">Materiale<\/td>\n<td data-start=\"3310\" data-end=\"3336\" data-col-size=\"sm\">CVD SiC \/ SSiC \/ RBSiC<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3337\" data-end=\"3361\">\n<td data-start=\"3337\" data-end=\"3346\" data-col-size=\"sm\">La purezza<\/td>\n<td data-start=\"3346\" data-end=\"3361\" data-col-size=\"sm\">Fino a 99,9%<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3362\" data-end=\"3398\">\n<td data-start=\"3362\" data-end=\"3386\" data-col-size=\"sm\">Temperatura di esercizio<\/td>\n<td data-start=\"3386\" data-end=\"3398\" data-col-size=\"sm\">\u2264 1600\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3399\" data-end=\"3428\">\n<td data-start=\"3399\" data-end=\"3409\" data-col-size=\"sm\">Densit\u00e0<\/td>\n<td data-start=\"3409\" data-end=\"3428\" data-col-size=\"sm\">2,3 - 3,9 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3429\" data-end=\"3469\">\n<td data-start=\"3429\" data-end=\"3456\" data-col-size=\"sm\">Resistenza agli shock termici<\/td>\n<td data-start=\"3456\" data-end=\"3469\" data-col-size=\"sm\">Eccellente<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3470\" data-end=\"3518\">\n<td data-start=\"3470\" data-end=\"3487\" data-col-size=\"sm\">Finitura superficiale<\/td>\n<td data-start=\"3487\" data-end=\"3518\" data-col-size=\"sm\">Rettifica di precisione \/ lucidatura<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3519\" data-end=\"3560\">\n<td data-start=\"3519\" data-end=\"3527\" data-col-size=\"sm\">Forma<\/td>\n<td data-start=\"3527\" data-end=\"3560\" data-col-size=\"sm\">Personalizzato (tondo \/ anello \/ piastra)<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3561\" data-end=\"3588\">\n<td data-start=\"3561\" data-end=\"3568\" data-col-size=\"sm\">Dimensione<\/td>\n<td data-start=\"3568\" data-end=\"3588\" data-col-size=\"sm\">Disponibile su misura<\/td>\n<\/tr>\n<tr data-start=\"3589\" data-end=\"3636\">\n<td data-start=\"3589\" data-end=\"3603\" data-col-size=\"sm\">Applicazione<\/td>\n<td data-start=\"3603\" data-end=\"3636\" data-col-size=\"sm\">Semiconduttore \/ CVD \/ Forno<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n<hr data-start=\"3638\" data-end=\"3641\" \/>\n<h2 data-section-id=\"mu966k\" data-start=\"3643\" data-end=\"3658\">Applicazioni<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"1eipr13\" data-start=\"3660\" data-end=\"3686\">Industria dei semiconduttori<\/h3>\n<ul data-start=\"3687\" data-end=\"3849\">\n<li data-section-id=\"13x15us\" data-start=\"3687\" data-end=\"3728\">Porta wafer per sistemi CVD\/PECVD<\/li>\n<li data-section-id=\"1ox36e0\" data-start=\"3729\" data-end=\"3774\">Diffusione, ossidazione, processi di ricottura<\/li>\n<li data-section-id=\"1t8nanb\" data-start=\"3775\" data-end=\"3811\">RTP e sistemi di crescita epitassiale<\/li>\n<li data-section-id=\"1jzl031\" data-start=\"3812\" data-end=\"3849\">Vassoi per il trasferimento e la movimentazione dei wafer<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3851\" data-end=\"3854\" \/>\n<h3 data-section-id=\"l1oj08\" data-start=\"3856\" data-end=\"3881\">LED e optoelettronica<\/h3>\n<ul data-start=\"3882\" data-end=\"3982\">\n<li data-section-id=\"dgfruo\" data-start=\"3882\" data-end=\"3911\">Lavorazione dei wafer di zaffiro<\/li>\n<li data-section-id=\"fwvbk7\" data-start=\"3912\" data-end=\"3943\">Sistemi di supporto per l'epitassia dei LED<\/li>\n<li data-section-id=\"1gl4kjt\" data-start=\"3944\" data-end=\"3982\">Supporto per substrati ad alta temperatura<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"3984\" data-end=\"3987\" \/>\n<h3 data-section-id=\"480g89\" data-start=\"3989\" data-end=\"4018\">Forni termici e a vuoto<\/h3>\n<ul data-start=\"4019\" data-end=\"4115\">\n<li data-section-id=\"kqy2l\" data-start=\"4019\" data-end=\"4055\">Vassoi di sinterizzazione ad alta temperatura<\/li>\n<li data-section-id=\"jgks7q\" data-start=\"4056\" data-end=\"4083\">Portatori di forni a vuoto<\/li>\n<li data-section-id=\"1c2tpui\" data-start=\"4084\" data-end=\"4115\">Apparecchiature per il trattamento termico<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"4117\" data-end=\"4120\" \/>\n<h3 data-section-id=\"1owf0zc\" data-start=\"4122\" data-end=\"4148\">Produzione avanzata<\/h3>\n<ul data-start=\"4149\" data-end=\"4255\">\n<li data-section-id=\"odfyg7\" data-start=\"4149\" data-end=\"4181\">Lavorazione di precisione della ceramica<\/li>\n<li data-section-id=\"1kui91r\" data-start=\"4182\" data-end=\"4215\">Apparecchiature per l'automazione<\/li>\n<li data-section-id=\"135k87d\" data-start=\"4216\" data-end=\"4255\">Piattaforme meccaniche ad alta stabilit\u00e0<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"4257\" data-end=\"4260\" \/>\n<h2 data-section-id=\"dysc5y\" data-start=\"4262\" data-end=\"4283\"><img decoding=\"async\" class=\"wp-image-2098 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-300x300.png\" alt=\"\" width=\"276\" height=\"276\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-150x150.png 150w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-768x768.png 768w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-12x12.png 12w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-600x600.png 600w, 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data-start=\"4441\" data-end=\"4472\">Forte resistenza alla corrosione<\/li>\n<li data-section-id=\"xmyntv\" data-start=\"4473\" data-end=\"4507\">Compatibile con i sistemi a vuoto<\/li>\n<li data-section-id=\"1ijrpkq\" data-start=\"4508\" data-end=\"4537\">Design completamente personalizzabile<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"4539\" data-end=\"4542\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1lwg0so\" data-start=\"4544\" data-end=\"4571\"><img decoding=\"async\" class=\"wp-image-2096 alignright\" src=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-3-300x300.png\" alt=\"\" width=\"280\" height=\"280\" srcset=\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-3-300x300.png 300w, https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-3-150x150.png 150w, 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data-end=\"4883\">\n<li data-section-id=\"1i7bvpn\" data-start=\"4651\" data-end=\"4689\">Personalizzazione del diametro e dello spessore<\/li>\n<li data-section-id=\"dmyogn\" data-start=\"4690\" data-end=\"4720\">Ottimizzazione della geometria delle scanalature<\/li>\n<li data-section-id=\"19luai6\" data-start=\"4721\" data-end=\"4749\">Fori di montaggio di precisione<\/li>\n<li data-section-id=\"r5ngym\" data-start=\"4750\" data-end=\"4781\">Lucidatura e lappatura delle superfici<\/li>\n<li data-section-id=\"c4ihff\" data-start=\"4782\" data-end=\"4818\">Lavorazione ultrapiatta per wafer<\/li>\n<li data-section-id=\"1lf2kpf\" data-start=\"4819\" data-end=\"4853\">Selezione di materiali ad alta purezza<\/li>\n<li data-section-id=\"881e6f\" data-start=\"4854\" data-end=\"4883\">Progettazione strutturale complessa<\/li>\n<\/ul>\n<p data-start=\"4885\" data-end=\"4956\">Servizi OEM e ODM disponibili per i produttori di apparecchiature per semiconduttori.<\/p>\n<hr data-start=\"4958\" data-end=\"4961\" \/>\n<h2 data-section-id=\"1hryhf7\" data-start=\"4963\" data-end=\"4969\">FAQ<\/h2>\n<h3 data-section-id=\"1rw8tyo\" data-start=\"4971\" data-end=\"5025\">Q1: A cosa serve un vassoio per wafer in carburo di silicio?<\/h3>\n<p data-start=\"5026\" data-end=\"5173\">Viene utilizzato per supportare e trasportare i wafer durante i processi di semiconduttori come CVD, PECVD, diffusione, ossidazione e ricottura ad alta temperatura.<\/p>\n<hr data-start=\"5175\" data-end=\"5178\" \/>\n<h3 data-section-id=\"8sm145\" data-start=\"5180\" data-end=\"5230\">D2: Perch\u00e9 usare SiC invece di quarzo o grafite?<\/h3>\n<p data-start=\"5231\" data-end=\"5244\">SiC fornisce:<\/p>\n<ul data-start=\"5245\" data-end=\"5391\">\n<li data-section-id=\"66suke\" data-start=\"5245\" data-end=\"5278\">Resistenza alle alte temperature<\/li>\n<li data-section-id=\"1k27992\" data-start=\"5279\" data-end=\"5309\">Migliore resistenza meccanica<\/li>\n<li data-section-id=\"1y67fsp\" data-start=\"5310\" data-end=\"5337\">Minore espansione termica<\/li>\n<li data-section-id=\"1kygjim\" data-start=\"5338\" data-end=\"5361\">Vita utile pi\u00f9 lunga<\/li>\n<li data-section-id=\"d0e53t\" data-start=\"5362\" data-end=\"5391\">Migliore stabilit\u00e0 chimica<\/li>\n<\/ul>\n<hr data-start=\"5393\" data-end=\"5396\" \/>\n<h3 data-section-id=\"c1126k\" data-start=\"5398\" data-end=\"5433\">D3: Il vassoio pu\u00f2 essere personalizzato?<\/h3>\n<p data-start=\"5434\" data-end=\"5527\">S\u00ec. Forniamo una personalizzazione completa che comprende dimensioni, struttura, spessore e design di montaggio.<\/p>\n<hr data-start=\"5529\" data-end=\"5532\" \/>\n<h3 data-section-id=\"4sy20p\" data-start=\"5534\" data-end=\"5587\">D4: \u00c8 adatto per il riscaldamento e il raffreddamento rapido?<\/h3>\n<p data-start=\"5588\" data-end=\"5686\">S\u00ec. Il SiC ha un'eccellente resistenza agli shock termici, che lo rende adatto ai processi di ciclaggio termico.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p data-start=\"199\" data-end=\"404\">Il vassoio per wafer in carburo di silicio \u00e8 un supporto ceramico di precisione ad alte prestazioni progettato per la lavorazione dei wafer di semiconduttori, i sistemi CVD\/PECVD, i forni a vuoto e gli ambienti industriali ad alta temperatura.<\/p>\n<p data-start=\"406\" data-end=\"666\">Realizzato in SiC CVD o SSiC (carburo di silicio sinterizzato) di elevata purezza, questo vassoio offre un'eccezionale stabilit\u00e0 termica, resistenza meccanica e chimica, garantendo una gestione stabile dei wafer e prestazioni di processo costanti in condizioni estreme.<\/p>","protected":false},"featured_media":2097,"comment_status":"open","ping_status":"closed","template":"","meta":{"site-sidebar-layout":"default","site-content-layout":"","ast-site-content-layout":"default","site-content-style":"default","site-sidebar-style":"default","ast-global-header-display":"","ast-banner-title-visibility":"","ast-main-header-display":"","ast-hfb-above-header-display":"","ast-hfb-below-header-display":"","ast-hfb-mobile-header-display":"","site-post-title":"","ast-breadcrumbs-content":"","ast-featured-img":"","footer-sml-layout":"","ast-disable-related-posts":"","theme-transparent-header-meta":"default","adv-header-id-meta":"","stick-header-meta":"default","header-above-stick-meta":"","header-main-stick-meta":"","header-below-stick-meta":"","astra-migrate-meta-layouts":"set","ast-page-background-enabled":"default","ast-page-background-meta":{"desktop":{"background-color":"","background-image":"","background-repeat":"repeat","background-position":"center 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