![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-2-300x300.png\")
A szil\u00edcium-karbid ostyat\u00e1lca egy nagy teljes\u00edtm\u00e9ny\u0171 prec\u00edzi\u00f3s ker\u00e1mia hordoz\u00f3, amelyet f\u00e9lvezet\u0151 ostyafeldolgoz\u00e1sra, CVD\/PECVD-rendszerekre, v\u00e1kuumkemenc\u00e9kre \u00e9s magas h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet\u0171 ipari k\u00f6rnyezetekre terveztek.<\/p>\n
A nagy tisztas\u00e1g\u00fa CVD SiC-b\u0151l vagy SSiC-b\u0151l (szinterezett szil\u00edciumkarbid) gy\u00e1rtott t\u00e1lca kiemelked\u0151 h\u0151stabilit\u00e1st, mechanikai szil\u00e1rds\u00e1got \u00e9s vegyi ellen\u00e1ll\u00e1st biztos\u00edt, \u00edgy stabil ostyakezel\u00e9st \u00e9s egyenletes technol\u00f3giai teljes\u00edtm\u00e9nyt biztos\u00edt sz\u00e9ls\u0151s\u00e9ges k\u00f6r\u00fclm\u00e9nyek k\u00f6z\u00f6tt is.<\/p>\n
Sz\u00e9les k\u00f6rben haszn\u00e1lj\u00e1k a f\u00e9lvezet\u0151gy\u00e1rt\u00e1sban, a LED epitaxi\u00e1ban, a zaf\u00edr ostya feldolgoz\u00e1s\u00e1ban, a fejlett ker\u00e1mi\u00e1k szinterez\u00e9s\u00e9ben \u00e9s a v\u00e1kuumos termikus rendszerekben.<\/p>\n
Fenntartja a szerkezeti integrit\u00e1st \u00e9s teljes\u00edtm\u00e9nyt folyamatos magas h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet\u0171 \u00fczemben, deform\u00e1ci\u00f3 n\u00e9lk\u00fcl.<\/p>\n
Gyors \u00e9s egyenletes h\u0151\u00e1tad\u00e1st biztos\u00edt, cs\u00f6kkenti a h\u0151m\u00e9rs\u00e9kleti gradienseket \u00e9s jav\u00edtja a folyamat hozam\u00e1t.<\/p>\n
Reped\u00e9s vagy vetemed\u00e9s n\u00e9lk\u00fcl ellen\u00e1ll a gyors f\u0171t\u00e9si \u00e9s h\u0171t\u00e9si ciklusoknak.<\/p>\n
A meger\u0151s\u00edtett szerkezet kiv\u00e1l\u00f3 teherb\u00edr\u00e1st \u00e9s hossz\u00fa t\u00e1v\u00fa m\u00e9retstabilit\u00e1st biztos\u00edt.<\/p>\n
Rendk\u00edv\u00fcl ellen\u00e1ll\u00f3 a savakkal, l\u00fagokkal, mar\u00f3 g\u00e1zokkal \u00e9s a f\u00e9lvezet\u0151 elj\u00e1r\u00e1sokban haszn\u00e1lt plazmak\u00f6rnyezetekkel szemben.<\/p>\n
A CNC-k\u00f6sz\u00f6r\u00fcl\u00e9s biztos\u00edtja a sz\u0171k t\u0171r\u00e9seket, a s\u00edkoss\u00e1got \u00e9s a sima ostya\u00e9rintkez\u00e9si fel\u00fcleteket az automatiz\u00e1lt rendszerek sz\u00e1m\u00e1ra.<\/p>\n
Ez a szerkezet magas h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet\u0171 ostyafeldolgoz\u00e1sra \u00e9s v\u00e1kuumos alkalmaz\u00e1sokra optimaliz\u00e1lt.<\/p>\n
A prec\u00edzi\u00f3san f\u00fart k\u00f6z\u00e9ps\u0151 szerkezet biztos\u00edtja:<\/p>\n
| T\u00e9tel<\/th>\n | Specifik\u00e1ci\u00f3<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n |
|---|---|
| Anyag<\/td>\n | CVD SiC \/ SSiC \/ RBSiC<\/td>\n<\/tr>\n |
| Tisztas\u00e1g<\/td>\n | 99,9%-ig<\/td>\n<\/tr>\n |
| \u00dczemi h\u0151m\u00e9rs\u00e9klet<\/td>\n | \u2264 1600\u00b0C<\/td>\n<\/tr>\n |
| S\u0171r\u0171s\u00e9g<\/td>\n | 2,3 - 3,9 g\/cm\u00b3<\/td>\n<\/tr>\n |
| H\u0151sokk-ellen\u00e1ll\u00e1s<\/td>\n | Kiv\u00e1l\u00f3<\/td>\n<\/tr>\n |
| Fel\u00fcletkezel\u00e9s<\/td>\n | Prec\u00edzi\u00f3s csiszol\u00e1s \/ pol\u00edroz\u00e1s<\/td>\n<\/tr>\n |
| Shape<\/td>\n | Egyedi (kerek \/ gy\u0171r\u0171 \/ lemez)<\/td>\n<\/tr>\n |
| M\u00e9ret<\/td>\n | Egy\u00e9ni rendelkez\u00e9sre \u00e1ll\u00f3<\/td>\n<\/tr>\n |
| Alkalmaz\u00e1s<\/td>\n | F\u00e9lvezet\u0151 \/ CVD \/ kemence<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n \n Alkalmaz\u00e1sok<\/h2>\n
|
![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-1-300x300.png\")
Term\u00e9kel\u0151ny\u00f6k<\/h2>\n![\"\"](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/CVDSSiC-Silicon-Carbide-Tray-For-Semiconductor-Wafer-Processing-3-300x300.png\")
Testreszab\u00e1si k\u00e9pess\u00e9g<\/h2>\n