![\"Si\u00e8ge](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-1-300x300.png\")
Le si\u00e8ge de distribution de gaz en c\u00e9ramique d'alumine 99% est un composant c\u00e9ramique de pr\u00e9cision haute performance con\u00e7u pour le contr\u00f4le ultra-stable du d\u00e9bit de gaz dans les syst\u00e8mes industriels avanc\u00e9s. Il est fabriqu\u00e9 \u00e0 partir d'oxyde d'aluminium 99% (Al\u2082O\u2083) de haute puret\u00e9, offrant une r\u00e9sistance m\u00e9canique, une stabilit\u00e9 chimique et des performances d'isolation \u00e9lectrique exceptionnelles.<\/p>\n
Ce composant est largement utilis\u00e9 dans les \u00e9quipements de fabrication de semi-conducteurs, les syst\u00e8mes de rev\u00eatement sous vide, les chambres de gravure au plasma, les syst\u00e8mes CVD et PECVD, et les modules de distribution de gaz de haute puret\u00e9.<\/p>\n
Sa fonction principale est d'assurer une diffusion uniforme et stable des gaz dans les chambres de traitement, ce qui permet de r\u00e9duire les variations du processus, d'am\u00e9liorer la r\u00e9gularit\u00e9 du rendement et de minimiser les risques de contamination. Par rapport au m\u00e9tal, au quartz ou aux c\u00e9ramiques de qualit\u00e9 inf\u00e9rieure, l'alumine 99% offre une r\u00e9sistance \u00e0 l'usure, une stabilit\u00e9 dimensionnelle et une fiabilit\u00e9 \u00e0 long terme nettement sup\u00e9rieures.<\/p>\n
Ce produit est fabriqu\u00e9 \u00e0 partir de c\u00e9ramique d'alumine 99% de haute densit\u00e9, consid\u00e9r\u00e9e comme l'une des c\u00e9ramiques techniques avanc\u00e9es les plus stables et les plus largement utilis\u00e9es dans les environnements industriels de pr\u00e9cision.<\/p>\n
![\"Si\u00e8ge](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-2-300x300.png\")
Caract\u00e9ristiques principales du mat\u00e9riau :<\/h3>\nPar rapport \u00e0 l'alumine 95%, l'alumine 99% pr\u00e9sente une duret\u00e9 plus \u00e9lev\u00e9e, une meilleure r\u00e9sistance \u00e0 l'usure et une stabilit\u00e9 structurelle am\u00e9lior\u00e9e, ce qui la rend plus adapt\u00e9e aux semi-conducteurs haut de gamme et aux syst\u00e8mes de rev\u00eatement de pr\u00e9cision.<\/p>\n
Le si\u00e8ge de distribution de gaz en c\u00e9ramique est con\u00e7u avec une structure poreuse contr\u00f4l\u00e9e avec pr\u00e9cision ou un syst\u00e8me de microcanaux. Cette structure permet une diffusion contr\u00f4l\u00e9e des gaz de traitement \u00e0 l'int\u00e9rieur des chambres \u00e0 vide ou des chambres de r\u00e9action.<\/p>\n
La structure des pores peut \u00eatre con\u00e7ue pour s'adapter \u00e0 des d\u00e9bits, des types de gaz et des configurations de chambre sp\u00e9cifiques.<\/p>\n
![\"Si\u00e8ge](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-3-300x300.png\")
Principaux avantages de l'alumine 99% en termes de performances<\/h2>\n| Propri\u00e9t\u00e9<\/th>\n | 99% Alumine (Al\u2082O\u2083 \u2265 99%)<\/th>\n | 95% Alumine<\/th>\n | Zircone<\/th>\n | St\u00e9atite<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Densit\u00e9 (g\/cm\u00b3)<\/td>\n | 3.85<\/td>\n | 3.65<\/td>\n | 5.9<\/td>\n | 2.8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Absorption d'eau (%)<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Temp\u00e9rature de frittage (\u2103)<\/td>\n | 1690<\/td>\n | 1670<\/td>\n | 1650<\/td>\n | 1350<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Duret\u00e9 (HV)<\/td>\n | 1700<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 800<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| R\u00e9sistance \u00e0 la flexion (MPa)<\/td>\n | >350<\/td>\n | >290<\/td>\n | >1100<\/td>\n | 90<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| R\u00e9sistance \u00e0 la compression (Kgf\/cm\u00b2)<\/td>\n | 30000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 4000<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Temp\u00e9rature maximale de fonctionnement (\u2103)<\/td>\n | 1500<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1100<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Dilatation thermique (\u00d710-\u2076\/\u2103)<\/td>\n | 8<\/td>\n | 7.8<\/td>\n | 10<\/td>\n | 6<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| R\u00e9sistance aux chocs thermiques (\u0394T \u2103)<\/td>\n | 200<\/td>\n | 220<\/td>\n | 350<\/td>\n | 200<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Conductivit\u00e9 thermique (W\/m-K)<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2.5<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| R\u00e9sistivit\u00e9 volumique (\u03a9-cm)<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | 10\u00b9\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Rigidit\u00e9 di\u00e9lectrique (KV\/mm)<\/td>\n | 18<\/td>\n | 16<\/td>\n | 15<\/td>\n | 10<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Constante di\u00e9lectrique (1MHz)<\/td>\n | 9.2-10.5<\/td>\n | 9.0-10<\/td>\n | 12<\/td>\n | 5.8<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n \n Param\u00e8tres techniques<\/h2>\n\n
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