![\"Alumiinikeraaminen](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-1-300x300.png\")
Alumiinikeraaminen 99%-kaasunjakoistuin on eritt\u00e4in suorituskykyinen tarkkuuskeraaminen komponentti, joka on suunniteltu eritt\u00e4in vakaaseen kaasuvirran s\u00e4\u00e4t\u00f6\u00f6n kehittyneiss\u00e4 teollisuusj\u00e4rjestelmiss\u00e4. Se on valmistettu eritt\u00e4in puhtaasta 99%-alumiinioksidista (Al\u2082O\u2083), joka tarjoaa erinomaisen mekaanisen lujuuden, kemiallisen vakauden ja s\u00e4hk\u00f6isen eristyskyvyn.<\/p>\n
T\u00e4t\u00e4 komponenttia k\u00e4ytet\u00e4\u00e4n laajalti puolijohteiden valmistuslaitteissa, tyhji\u00f6pinnoitusj\u00e4rjestelmiss\u00e4, plasmasy\u00f6vytyskammioissa, CVD- ja PECVD-j\u00e4rjestelmiss\u00e4 sek\u00e4 eritt\u00e4in puhtaan kaasun jakelumoduuleissa.<\/p>\n
Sen keskeisen\u00e4 teht\u00e4v\u00e4n\u00e4 on varmistaa tasainen ja vakaa kaasudiffuusio prosessikammioissa, v\u00e4hent\u00e4\u00e4 prosessin vaihtelua, parantaa saannon tasaisuutta ja minimoida kontaminaatioriskit. Verrattuna metalliin, kvartsiin tai alempiarvoisiin keraameihin 99%-alumiinioksidi tarjoaa huomattavasti paremman kulutuskest\u00e4vyyden, mittojen vakauden ja pitk\u00e4aikaisen luotettavuuden.<\/p>\n
T\u00e4m\u00e4 tuote on valmistettu eritt\u00e4in tihe\u00e4st\u00e4 99%-alumiinikeramiikasta, jota pidet\u00e4\u00e4n yhten\u00e4 vakaimmista ja laajimmin k\u00e4ytetyist\u00e4 kehittyneist\u00e4 teknisist\u00e4 keraamisista materiaaleista tarkkuusteollisuudessa.<\/p>\n
![\"Alumiinikeraaminen](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-2-300x300.png\")
Materiaalin t\u00e4rkeimm\u00e4t ominaisuudet:<\/h3>\nVerrattuna 95%-alumiinaan 99%-alumiinioksidin kovuus on suurempi, kulutuskest\u00e4vyys parempi ja rakenteellinen vakaus parempi, joten se soveltuu paremmin huippuluokan puolijohde- ja tarkkuuspinnoitusj\u00e4rjestelmiin.<\/p>\n
Keraaminen kaasunjakeluistuin on suunniteltu tarkasti hallitulla huokoisella rakenteella tai mikrokanavaj\u00e4rjestelm\u00e4ll\u00e4. T\u00e4m\u00e4 rakenne mahdollistaa prosessikaasujen hallitun diffuusion tyhji\u00f6- tai reaktiokammioiden sis\u00e4ll\u00e4.<\/p>\n
Huokosrakenne voidaan suunnitella vastaamaan tiettyj\u00e4 virtausnopeuksia, kaasutyyppej\u00e4 ja kammiokokoonpanoja.<\/p>\n
![\"Alumiinikeraaminen](\"https:\/\/www.xkh-ceramics.com\/wp-content\/uploads\/2026\/05\/Precision-Machined-Alumina-Ceramic-Gas-Shower-Disc-for-Semiconductor-and-Industrial-Gas-Distribution-Systems-3-300x300.png\")
99%-alumiinin t\u00e4rkeimm\u00e4t suorituskykyedut<\/h2>\n| Kiinteist\u00f6<\/th>\n | 99% Alumiinioksidi (Al\u2082O\u2083 \u2265 99%)<\/th>\n | 95% Alumiinioksidi<\/th>\n | Zirkonia<\/th>\n | Steatiitti<\/th>\n<\/tr>\n<\/thead>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Tiheys (g\/cm\u00b3)<\/td>\n | 3.85<\/td>\n | 3.65<\/td>\n | 5.9<\/td>\n | 2.8<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Veden imeytyminen (%)<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n | 0<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Sintrausl\u00e4mp\u00f6tila (\u2103)<\/td>\n | 1690<\/td>\n | 1670<\/td>\n | 1650<\/td>\n | 1350<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Kovuus (HV)<\/td>\n | 1700<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 800<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Taivutuslujuus (MPa)<\/td>\n | >350<\/td>\n | >290<\/td>\n | >1100<\/td>\n | 90<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Puristuslujuus (Kgf\/cm\u00b2)<\/td>\n | 30000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 25000<\/td>\n | 4000<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Suurin k\u00e4ytt\u00f6l\u00e4mp\u00f6tila (\u2103)<\/td>\n | 1500<\/td>\n | 1400<\/td>\n | 1600<\/td>\n | 1100<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| L\u00e4mp\u00f6laajeneminen (\u00d710-\u2076\/\u2103)<\/td>\n | 8<\/td>\n | 7.8<\/td>\n | 10<\/td>\n | 6<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| L\u00e4mp\u00f6shokin kest\u00e4vyys (\u0394T \u2103)<\/td>\n | 200<\/td>\n | 220<\/td>\n | 350<\/td>\n | 200<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| L\u00e4mm\u00f6njohtavuus (W\/m-K)<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2<\/td>\n | 3<\/td>\n | 2.5<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Tilavuusresistanssi (\u03a9-cm)<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | >10\u00b9\u00b2<\/td>\n | 10\u00b9\u00b2<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Dielektrinen lujuus (KV\/mm)<\/td>\n | 18<\/td>\n | 16<\/td>\n | 15<\/td>\n | 10<\/td>\n<\/tr>\n | ||||||||||||||||||||||||||||||
| Dielektrinen vakio (1 MHz)<\/td>\n | 9.2-10.5<\/td>\n | 9.0-10<\/td>\n | 12<\/td>\n | 5.8<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<\/div>\n<\/div>\n \n Tekniset parametrit<\/h2>\n\n
|